[发明专利]用于对基底进行电镀的装置和方法无效
| 申请号： | 201010287440.1 | 申请日： | 2010-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN102021636A | 公开（公告）日： | 2011-04-20 |
| 发明（设计）人： | 洛塔尔·利珀特;斯特凡·道维 | 申请（专利权）人： | 肖特太阳能控股公司 |
| 主分类号： | C25D17/00 | 分类号： | C25D17/00;C25D7/12;C25D5/18;H01L31/0224;H01L31/18 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 车文;樊卫民 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于对基底进行电镀的装置和方法，其中，介绍了一种用于对至少一个基底(1)的至少一个表面(2、3)进行电镀的装置(10)，基底(1)尤其是指太阳能电池(1a)。该装置具有镀层浸浴区(13)，其具有以电解镀液(14)填充的镀槽(12)。此外，设置有：用于引导基底(1)穿过镀层浸浴区(13)的传送装置(15)；具有至少一个用于照射基底(1)的光源(64)的光源电路(60)以及用于基底(1)的整流器电路(50)。该装置具有用于产生同步的电流脉冲及光脉冲的机构，其中，在电流脉冲间歇中，中断对基底的照射。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 基底 进行 电镀 装置 方法 | ||
【主权项】：
用于对至少一个基底(1)的至少一个表面(2、3)进行电镀的装置，所述基底(1)尤其是指太阳能电池(1a)，所述装置具有：镀层浸浴区(13)，所述镀层浸浴区(13)具有以电解的镀液(14)填充的镀槽(12)；用于引导所述基底穿过所述镀层浸浴区(13)的传送装置(15)；带有至少一个用于照射所述基底(1)的光源(64)的光源电路(60)；以及用于所述基底(1)的带阳极(54)的整流器电路(50)，其特征在于，设置有用于产生同步的电流脉冲和光脉冲的机构，其中，在所述电流脉冲间的脉冲间歇中，中断对所述基底(1)的照射。
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