[发明专利]一种化学机械抛光液有效
| 申请号： | 201010287359.3 | 申请日： | 2010-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN102408834A | 公开（公告）日： | 2012-04-11 |
| 发明（设计）人： | 王晨;何华锋 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光液，包括：研磨颗粒，含卤素的氧化剂，唑类化合物和有机碱，所述的化学机械抛光液具有碱性的pH值。该抛光液实现了在氧化剂存在的条件下，不仅不抑制了硅和铜的抛光速度，还显著提高了硅的抛光速度的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光液，包括：研磨颗粒，含卤素的氧化剂，唑类化合物和有机碱，所述的化学机械抛光液具有碱性的pH值。
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