[发明专利]一种化学机械抛光液有效
| 申请号： | 201010287359.3 | 申请日： | 2010-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN102408834A | 公开（公告）日： | 2012-04-11 |
| 发明（设计）人： | 王晨;何华锋 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
1.一种化学机械抛光液，包括：研磨颗粒，含卤素的氧化剂，唑类化合物和有机碱，所述的化学机械抛光液具有碱性的pH值。
2.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的研磨颗粒选自于SiO2、Al2O3、ZrO2、CeO2、SiC、Fe2O3、TiO2和Si3N4中的一种或多种。
3.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的研磨颗粒的质量百分含量为0.1～20％。
4.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的含卤素的氧化剂为溴酸盐和/或碘酸盐。
5.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的含卤素的氧化剂的质量百分含量为0.1～5％。
6.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的唑类化合物为三氮唑。
7.根据权利要求6所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的三氮唑为1-H-1，2，4-三氮唑(TAZ)。
8.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的唑类化合物的质量百分含量为0.1～5％。
9.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的有机碱为有机胺和/或季铵碱。
10.根据权利要求9所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的季铵碱为四甲基氢氧化铵。
11.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的化学机械抛光液的pH值为10～11。
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