[发明专利]光刻胶组合物无效
| 申请号： | 201010283695.0 | 申请日： | 2010-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN102023482A | 公开（公告）日： | 2011-04-20 |
| 发明（设计）人： | 市川幸司;坂本宏;杉原昌子;平冈崇志 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/039;G03F7/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 顾晋伟;吴鹏章 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明提供一种光刻胶组合物，包含产酸剂和树脂，所述树脂含有衍生自式(I)表示的单体的结构单元： |
||
| 搜索关键词： | 光刻 组合 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶组合物，包含产酸剂和树脂，所述树脂含有衍生自式(I)表示的单体的结构单元：![]()
其中R1表示氢原子或C1-C4的烷基，R2表示氢原子或C1-C4烷基，A1表示单键、-(CH2)m-CO-O-A2-＊或-(CH2)n-CO-NR30-A3-＊，m和n各自独立地表示1至6的整数，R30表示氢原子或C1-C4的烷基，A2表示单键或C1-C3链烷二基，A3表示单键或C1-C3链烷二基，＊表示与B1的键合位置，B1表示：式(1a)表示的基团：![]()
其中R3、R4和R5各自独立地表示C1-C16脂肪族烃基，并且R4和R5可以相互键合以与键合R4和R5的碳原子一起形成C3-C18环，具有内酯结构的C4-C20饱和环状基团，或者具有至少一个羟基的C5-C20饱和环烃基。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友化学株式会社，未经住友化学株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010283695.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
