[发明专利]光刻胶组合物

权利要求书

1.一种光刻胶组合物，包含产酸剂和树脂，所述树脂含有衍生自式(I)表示的单体的结构单元：

其中R¹表示氢原子或C1-C4的烷基，R²表示氢原子或C1-C4烷基，A¹表示单键、-(CH₂)_m-CO-O-A²-＊或-(CH₂)_n-CO-NR³⁰-A³-＊，m和n各自独立地表示1至6的整数，R³⁰表示氢原子或C1-C4的烷基，A²表示单键或C1-C3链烷二基，A³表示单键或C1-C3链烷二基，＊表示与B¹的键合位置，

B¹表示：

式(1a)表示的基团：

其中R³、R⁴和R⁵各自独立地表示C1-C16脂肪族烃基，并且R⁴和R⁵可以相互键合以与键合R⁴和R⁵的碳原子一起形成C3-C18环，

具有内酯结构的C4-C20饱和环状基团，或者

具有至少一个羟基的C5-C20饱和环烃基。

2.根据权利要求1的光刻胶组合物，其中B¹是式(1a)表示的基团，其中R³、R⁴和R⁵各自独立地表示C1-C8脂肪族烃基或C3-C8饱和环烃基，并且R⁴和R⁵可以相互键合以与键合R⁴和R⁵的碳原子一起形成C3-C10环，并且所述饱和环烃基和所述环可具有C1-C8脂肪族烃基。

3.根据权利要求1的光刻胶组合物，其中B¹是式(1a-1)或(1a-2)表示的基团，

其中R⁷表示C1-C8脂肪族烃基或可具有C1-C8脂肪族烃基的C3-C8饱和环烃基，R⁸在各种情况下独立地为C1-C8脂肪族烃基，p表示0至10的整数，R⁹表示C1-C8脂肪族烃基或可具有C1-C8脂肪族烃基的C3-C8饱和环烃基，R¹⁰在各种情况下独立地为C1-C8脂肪族烃基，q表示0至10的整数。

4.根据权利要求1的光刻胶组合物，其中B¹是式(1b-1)或(1b-2)表示的基团，

其中R¹¹在各种情况下独立地为C1-C4烷基，r表示0至3的整数，R¹²在各种情况下独立地为羧基、氰基或C1-C4烷基，s表示0至3的整数。

5.根据权利要求1的光刻胶组合物，其中B¹是式(1c-1)表示的基团，

其中R¹⁴在各种情况下独立地为C1-C4烷基或羟基，u表示0至3的整数。

6.根据权利要求5的光刻胶组合物，其中B¹是式(1c-2)表示的基团，

其中R¹⁵在各种情况下独立地为C1-C4烷基，v表示0至3的整数，w表示1至3的整数，并且满足v和w的和小于或等于4。

7.根据权利要求1-6中任一项的光刻胶组合物，其中A²和A³是单键。

8.根据权利要求1或6中任一项的光刻胶组合物，其中所述树脂具有酸敏基团，并且不溶或难溶于碱性水溶液但在酸的作用下变得可溶于碱性水溶液。

9.根据权利要求7的光刻胶组合物，其中所述树脂具有酸敏基团，并且不溶或难溶于碱性水溶液但在酸的作用下变得可溶于碱性水溶液。