[发明专利]硫系化合物相变材料抛光后清洗液有效
| 申请号： | 201010281508.5 | 申请日： | 2010-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN101935596A | 公开（公告）日： | 2011-01-05 |
| 发明（设计）人： | 王良咏;宋志棠;刘卫丽;刘波;钟旻;封松林 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | C11D1/86 | 分类号： | C11D1/86;C11D1/62;C11D1/72;C11D1/04;C11D3/04;C11D3/28;C11D3/60 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 许亦琳;余明伟 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种相变材料抛光后清洗液，包括至少两种氧化剂、表面活性剂、金属防腐抑制剂、酸性介质和去离子水；以清洗液总重量为基准，上述组分的重量百分比为：氧化剂总量0.01-10wt％，表面活性剂0.01-4wt％，金属防腐抑制剂0.0001-20wt％，酸性介质0.2-30wt％，余量为去离子水。本发明提供的抛光后清洗液，通过采用两种以上氧化剂的协同作用，大大提高了硫系化合物相变材料GexSbyTe(1-x-y)的抛光后清洗效率，其残留去除速率大大提高，可达9-70nm/min。 | ||
| 搜索关键词： | 化合物 相变 材料 抛光 清洗 | ||
【主权项】：
一种相变材料抛光后清洗液，包括至少两种氧化剂、表面活性剂、金属防腐抑制剂、酸性介质和去离子水；其中，以清洗液总重量为基准，上述组分的重量百分比为：氧化剂总量 0.01‑10wt％；表面活性剂 0.01‑4wt％；金属防腐抑制剂 0.0001‑20wt％；酸性介质 0.2‑30wt％；去离子水 余量。
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