[发明专利]硫系化合物相变材料抛光后清洗液

权利要求书

1.一种相变材料抛光后清洗液，包括至少两种氧化剂、表面活性剂、金属防腐抑制剂、酸性介质和去离子水；其中，以清洗液总重量为基准，上述组分的重量百分比为：

氧化剂总量        0.01-10wt％；

表面活性剂        0.01-4wt％；

金属防腐抑制剂    0.0001-20wt％；

酸性介质          0.2-30wt％；

去离子水          余量。

2.如权利要求1所述的相变材料抛光后清洗液，其特征在于，所述的氧化剂选自铁氰化钾、双氧水、过硫酸铵、氯化铁、高锰酸钾、高氯酸钾、二氯化锰、三氯化锰、硫代硫酸钠、重铬酸钾、碘酸钾中的两种或多种。

3.如权利要求2所述的相变材料抛光后清洗液，其特征在于，所述的氧化剂有两种，其中一种氧化剂选自双氧水、过硫酸铵、硫代硫酸钠或碘酸钾中的一种，另一种氧化剂选自铁氰化钾、氯化铁、高锰酸钾、高氯酸钾、二氯化锰、三氯化锰或重铬酸钾中的一种。

4.如权利要求2所述相变材料抛光后清洗液，其特征在于，所述氧化剂总量的重量百分比为1-10wt％。

5.如权利要求2所述相变材料抛光后清洗液，其特征在于，所述表面活性剂的重量百分比为0.05-2wt％。

6.如权利要求2所述相变材料抛光后清洗液，其特征在于，所述金属防腐抑制剂的重量百分比为0.001-2wt％。

7.如权利要求2所述相变材料抛光后清洗液，其特征在于，所述酸性介质的重量百分比为1-25wt％。

8.如权利要求1-7任一所述相变材料抛光后清洗液，其特征在于，所述的表面活性剂选自脂肪醇聚氧乙烯醚、聚丙烯酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯和十六烷基三甲基溴化铵；所述的金属防腐抑制剂选自苯丙三唑、吡唑及咪唑；所述的酸性介质选自硝酸、磷酸、硫酸、盐酸、氢氟酸、柠檬酸及酒石酸。

9.如权利要求1-8任一所述相变材料抛光后清洗液用于硫系化合物相变材料的抛光后清洗的用途。

10.如权利要求9所述的用途，其特征在于，所述的硫系化合物相变材料符合化学通式：Ge_xSb_yTe_(1-x-y)，其中0≤x≤0.5，0≤y≤0.5，且x、y不同时为0。