[发明专利]太阳电池的制备方法无效
| 申请号: | 201010277110.4 | 申请日: | 2010-09-09 |
| 公开(公告)号: | CN101937945A | 公开(公告)日: | 2011-01-05 |
| 发明(设计)人: | 石劲超 | 申请(专利权)人: | 浙江百力达太阳能有限公司 |
| 主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
| 代理公司: | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人: | 翁若莹 |
| 地址: | 314512 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种太阳电池的制备方法,包括以下步骤:提供多片单晶硅片进行表面织构化;将多片织构化的硅片层叠在一起在其周边沉积上一层氮化硅或氧化硅掩蔽膜,然后在硅片待制作正电极的前表面上扩散上一层磷掺杂层,形成PN结,而在硅片的周边由于掩蔽膜的存在而没有形成扩散PN结;去除周边掩蔽膜和表面磷硅玻璃;制作钝化及减反射层;进行丝网印刷和烧结形成背面Ag电极、背面铝背场和正面Ag电极。本发明提供的太阳电池的制备方法,在进行杂质源扩散制作PN结前先形成掩蔽膜,由于掩蔽膜的存在,在硅片四周边缘不会形成PN结,将扩散后的硅片进行酸洗去除硅片四周掩蔽膜和扩散表面的磷硅玻璃,从而达到替代刻蚀的目的。 | ||
| 搜索关键词: | 太阳电池 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种太阳电池的制备方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:提供多片单晶硅片,对单晶硅片表面织构化形成绒面结构;将多片织构化的硅片层叠在一起,并采用化学气相沉积法在其四周沉积氮化硅或氧化硅掩蔽膜,或者通过化学氧化的方法在其四周沉积一层氧化硅掩蔽膜;将上述硅片通过扩散工艺,在硅片待制作栅电极的前表面上扩散上一层磷掺杂层,形成PN结,而在硅片的周边由于掩蔽膜的存在而没有形成扩散磷掺杂层;去除在硅片周边形成的掩蔽膜和在硅片表面形成的副产物磷硅玻璃;采用等离子增强化学气相沉积法在上述硅片的扩散面沉积一层氮化硅薄膜形成钝化及减反射层;用丝网印刷的方法,在上述硅片层的背面依次印刷背电极浆料和背电场浆料,在正面印刷细栅电极和主栅电极浆料后进行烧结;烧结后背电极浆料和背电场浆料形成太阳能电池的背面Ag电极和铝背场,而正面电极浆料则穿过钝化及减反射层与扩散层接触,形成具有良好欧姆接触的太阳能电池的正面Ag电极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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