[发明专利]一种可控自钳位SensorFET复合纵向功率器件无效

专利信息
申请号: 201010268983.9 申请日: 2010-08-31
公开(公告)号: CN101980362A 公开(公告)日: 2011-02-23
发明(设计)人: 李泽宏;邓光平;钱振华;胡涛;洪辛;张波 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/06;H01L29/417
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 葛启函
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种可控自钳位SensorFET复合纵向功率器件,属于半导体功率器件技术和功率集成电路技术领域。本发明将功率变换器的主开关管与SensorFET器件集成于同一P型衬底上,二者采用共用阳极(或共用金属阳极)结构,其中所述SensorFET器件的控制电极与共用阳极之间具有钳位二极管串,所述功率变换器的主开关管可以是纵向MOS复合类器件或常规纵向MOS器件。本发明提供的可控自钳位SensorFET复合纵向功率器件,可在为内部电路提供稳定充电电流的同时,有效地对雪崩能量进行泄放,使得SensorFET器件的瞬态安全工作区得到扩展。同时本发明通过钳位管与控制栅区的连接,实现了对能量泄放大小和钳位时间的控制,从而扩展了智能功率IC在高雪崩能量环境下的应用,例如点火领域。
搜索关键词: 一种 可控 sensorfet 复合 纵向 功率 器件
【主权项】:
一种可控自钳位SensorFET复合纵向功率器件,包括一个功率变换器的主开关管和一个SensorFET器件;所述功率变换器的主开关管和SensorFET器件集成于同一P型衬底(11)上;所述SensorFET器件为纵向结构,包括:P型衬底(12)、N‑漂移区(13)、位于P型衬底(12)和N‑漂移区(13)之间的N+埋层(11);一个位于N‑漂移区(13)中、一端与金属阳电极(3)相连、另一端伸入N+埋层(11)的深N型接触区(10);一个位于N‑漂移区(13)中与金属阴电极(5)相连的N+区(6);由与金属阳电极(3)相连的深N型接触区(10)、N+埋层(11)、N‑漂移区(13)和金属阴电极(5)相连的N+区(6)构成充电与电流检测通道;环绕金属阴电极(5)的金属控制电极(4),与金属控制电极(4)相连的可控栅区;所述可控栅区由围绕与金属阴电极(5)相连的N+区(6)的P型区(9)与P+区(7)构成;一个由N型多晶硅(161)和P型多晶硅(162)交替形成的钳位二极管串(16),所述钳位二极管串位于N‑漂移区(10)上方的金属控制电极(4)和金属阳电极(3)之间,钳位二极管串与N‑漂移区(10)之间是场氧化层(14);三个金属电极之间是起隔离作用的氧化层(15);所述功率变换器的主开关管与所述SensorFET器件共用金属阳电极,但所述功率变换器的主开关管中电流方向与所述SensorFET器件中电流方向相互垂直,即功率变换器的主开关管的横向轴线与SensorFET器件的横向轴线相互垂直。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学,未经电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010268983.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top