[发明专利]一种可控自钳位SensorFET复合纵向功率器件无效

专利信息
申请号: 201010268983.9 申请日: 2010-08-31
公开(公告)号: CN101980362A 公开(公告)日: 2011-02-23
发明(设计)人: 李泽宏;邓光平;钱振华;胡涛;洪辛;张波 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/06;H01L29/417
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 葛启函
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 可控 sensorfet 复合 纵向 功率 器件
【权利要求书】:

1.一种可控自钳位SensorFET复合纵向功率器件,包括一个功率变换器的主开关管和一个SensorFET器件;所述功率变换器的主开关管和SensorFET器件集成于同一P型衬底(11)上;

所述SensorFET器件为纵向结构,包括:P型衬底(12)、N-漂移区(13)、位于P型衬底(12)和N-漂移区(13)之间的N+埋层(11);一个位于N-漂移区(13)中、一端与金属阳电极(3)相连、另一端伸入N+埋层(11)的深N型接触区(10);一个位于N-漂移区(13)中与金属阴电极(5)相连的N+区(6);由与金属阳电极(3)相连的深N型接触区(10)、N+埋层(11)、N-漂移区(13)和金属阴电极(5)相连的N+区(6)构成充电与电流检测通道;环绕金属阴电极(5)的金属控制电极(4),与金属控制电极(4)相连的可控栅区;所述可控栅区由围绕与金属阴电极(5)相连的N+区(6)的P型区(9)与P+区(7)构成;一个由N型多晶硅(161)和P型多晶硅(162)交替形成的钳位二极管串(16),所述钳位二极管串位于N-漂移区(10)上方的金属控制电极(4)和金属阳电极(3)之间,钳位二极管串与N-漂移区(10)之间是场氧化层(14);三个金属电极之间是起隔离作用的氧化层(15);

所述功率变换器的主开关管与所述SensorFET器件共用金属阳电极,但所述功率变换器的主开关管中电流方向与所述SensorFET器件中电流方向相互垂直,即功率变换器的主开关管的横向轴线与SensorFET器件的横向轴线相互垂直。

2.根据权利要求1所述的可控自钳位SensorFET复合纵向功率器件,其特征在于,所述功率变换器的主开关管是纵向MOS复合类器件,包括:P型衬底(12)、N-漂移区(13)、位于P型衬底(12)和N-漂移区(13)之间的N+埋层(11)、位于N-漂移区(13)和N+埋层(11)之间的P+埋层(18);一个位于N-漂移区(13)中,一端与金属阳电极(3)相连、另一端伸入P+埋层(18)的深P型接触区(17);一个位于N-漂移区(13)中的P型区(8);一个P型区(8)中与主开关管自身金属阴电极(2)相连的N+区(6)和P+区(7);由与金属阳电极(3)相连的深P型接触区(17)、P+埋层(18)、N-漂移区(13)、P型区(8)、与主开关管自身金属阴电极(2)相连的N+区(6)和P+区(7)构成主开关管的电流通道;位于主开关管自身金属阴电极(2)旁边的多晶硅栅电极(1),多晶硅(1)与金属阳电极(3)和功率变换器的主开关管自身金属阴电极(2)之间是起隔离作用的氧化层(15)。

3.根据权利要求1所述的可控自钳位SensorFET复合纵向功率器件,其特征在于,所述功率变换器的主开关管是常规纵向MOS器件,包括:P型衬底(12)、N-漂移区(13)、位于P型衬底(12)和N-漂移区(13)之间的N+埋层(11);一个由位于N-漂移区(13)中、一端与金属阳电极(3)相连、另一端伸入N+埋层(11)的深N型接触区(10)形成的与所述SensorFET器件共用的阳极;一个位于N-漂移区(13)中的P型区(8);一个P型区(8)中与主开关管自身金属阴电极(2)相连的N+区(6)和P+区(7);由与金属阳电极(3)相连的深N型接触区(10)、N+埋层(11)、N-漂移区(13)、P型区(8)、与主开关管自身金属阴电极(2)相连的N+区(6)和P+区(7)构成主开关管的电流通道;位于主开关管自身金属阴电极(2)旁边的多晶硅栅电极(1),多晶硅(1)与金属阳电极(3)和功率变换器的主开关管自身金属阴电极(2)之间是起隔离作用的氧化层(15)。

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