[发明专利]双面钝化的晶体硅太阳电池的制备方法无效
申请号: | 201010267015.6 | 申请日: | 2010-08-31 |
公开(公告)号: | CN101937944A | 公开(公告)日: | 2011-01-05 |
发明(设计)人: | 孟凡英;张松;汪建强;韩涛;程雪梅;司新文;李翔;黄建华 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 上海交达专利事务所 31201 | 代理人: | 王锡麟;王桂忠 |
地址: | 200240 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种光伏发电技术领域的双面钝化的晶体硅太阳电池的制备方法。包括①采用碱溶液和酸溶液分别对P型单晶硅和多晶硅片进行表面预清洗和表面织构;②用三氯氧磷作为扩散源进行扩散形成PN结;③采用化学湿法去除硅片表面的磷硅玻璃,并采用等离子体将硅片边缘刻蚀;④采用等离子体增强化学汽相沉积方法在P型硅片的发射区表面制备氮化硅薄膜;⑤采用热丝化学气相沉积法制备氢化微晶硅和非晶硅的混合相薄膜材料,将薄膜沉积到P型硅片一侧,钝化P型硅表面的缺陷和悬挂键;⑥采用丝网印刷背面电极、丝网印刷正面电极,经过烧结后,形成太阳电池。本发明降低光生少数载流子在背表面复合的几率,提高电池的长波光量子效率,为光生载流子的输运和收集创造条件。 | ||
搜索关键词: | 双面 钝化 晶体 太阳电池 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种双面钝化的晶体硅太阳电池的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:①采用碱溶液和酸溶液分别对P型单晶硅和多晶硅片进行表面预清洗和表面织构,使硅片表面清洁,而且在单晶硅表面形成金字塔结构在多晶硅表面形成的腐蚀坑;②用三氯氧磷作为扩散源进行扩散形成PN结;③采用化学湿法去除硅片表面的磷硅玻璃,并采用等离子体将硅片边缘刻蚀;④采用等离子体增强化学汽相沉积方法在N型硅上制备氮化硅薄膜作为电池的减反射膜和钝化膜;⑤采用热丝化学气相沉积法制备氢化微晶硅和非晶硅的混合相薄膜材料,将薄膜沉积到P型硅片一侧,钝化P型硅表面的缺陷和悬挂键;⑥采用丝网印刷背表面场、背面电极、丝网印刷正面电极,经过烧结后,形成太阳电池。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海交通大学,未经上海交通大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010267015.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种家庭影院功放机VFD灰度显示系统
- 下一篇:可调套筒扳手演示装置
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的