[发明专利]具有降低的污染的反射光学元件有效
| 申请号： | 201010265577.7 | 申请日： | 2007-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN101968609A | 公开（公告）日： | 2011-02-09 |
| 发明（设计）人： | D·H·埃姆;S·米勒伦德;T·施泰因;J·H·J·莫尔斯;B·T·沃尔斯施里金;D·克劳斯;R·维尔斯路易斯;M·G·H·迈耶因克 | 申请（专利权）人： | 卡尔·蔡司半导体技术股份公司;ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G21K1/06 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 陈松涛;蹇炜 |
| 地址： | 德国奥*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光学装置，特别是一种用于EUV光刻的投影曝光设备(1)，包括：围住内部空间(15)的外壳(2)；至少一个布置在所述外壳(2)中的光学元件(4至10，12，14.1至14.6)，特别是反射光学元件；至少一个用于在所述外壳(2)的所述内部空间(15)中产生真空的真空产生单元(3)；以及至少一个真空外壳(18，18.1至18.10)，布置在所述外壳(2)的所述内部空间(15)中，并且至少围住所述光学元件(4至10，12，14.1至14.5)的光学表面(17，17.1，17.2)，其中，污染降低单元与所述真空外壳(18.1至18.10)关联，相对于所述内部空间(15)中的所述污染物质的分压，所述污染降低单元降低至少在所述光学表面(17，17.1，17.2)附近处污染物质的分压，特别是水和/或碳氢化合物的分压。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 降低 污染 反射 光学 元件 | ||
【主权项】：
一种反射光学元件(30)，特别是用于EUV光刻的反射光学元件(30)，包括：基底(31)，以及导电多层系统(33)，所述导电多层系统(33)在与所述基底(31)相反的侧上包括反射光学表面(34)，其特征在于导电层(32)，布置在所述基底(31)和多层系统(33)之间，并且是电可接触的，用于将光电流引走、用于接地或用于施加指定的电压。
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