[发明专利]用于TFT-LCD蚀刻制程的面板品质虚拟量测方法与系统

摘要

本发明公开一种用于TFT-LCD蚀刻制程的面板品质虚拟量测方法与系统，先进制程控制单元获取至少一制程机台的制程参数资料值；量测机台获取面板品质量测值，面板品质数据处理单元将抽样的面板品质量测值先减去面板品质量测值的平均值，再除以面板品质量测值的标准偏差；关键参数挑选单元挑选关键制程参数数据值，线性模型预估单元以线性最小二乘算法建立初始预估模型；多产品效益处理单元产生初始多产品预估模型；干扰项系数处理单元得到估计值，以时间序列回归算法处理该误差值，产生干扰项系数后建立虚拟量测模型单元。本发明能对同一制程配方但不同规格的各式面板进行质量预测，降低抽样量测的频率，减轻预估模型的复杂度。

主权项

一种用于TFT‑LCD蚀刻制程的面板品质虚拟量测方法，其特征是采用如下步骤：1)先进制程控制单元(120)获取至少一制程机台(110)的制程参数资料值(131)后，原始数据处理单元(130)将各制程参数数据值(131)先减去制程参数数据值(131)的平均值，再除以制程参数数据值(131)的标准偏差；2)量测机台(190)获取抽样量测加工后的面板品质量测值(192)，面板品质数据处理单元(191)将抽样的面板品质量测值(192)先减去面板品质量测值(192)的平均值，再除以面板品质量测值(192)的标准偏差；3)关键参数挑选单元(140)以逐步回归的方式从制程参数数据值(131)中挑选关键制程参数数据值(141)，且当制程参数数据值(131)其中之一的偏F值大于且进入阈值时，则该制程参数数据值(131)被设定为关键制程参数数据值(141)；4)线性模型预估单元(150)根据关键制程参数数据值(141)及其对应的实际面板品质量测值(192)的关系，以线性最小二乘算法建立初始预估模型(151)；5)在初始预估模型(151)的基础上将同一配方下误差的总变动量，依产品种类解成不同的部份，再以假设检定的方法来判断这些产品因素是否确实能解释资料的变动，多产品效益处理单元(160)根据同一配方下各个面板的产品效益产生初始多产品预估模型(161)；6)干扰项系数处理单元(170)根据关键制程参数数据值(141)，由初始多产品预估模型(161)得到估计值，并计算该估计值与各估计值所对应的实际面板品质量测值(192)之间的误差值，以时间序列回归算法处理该误差值，产生干扰项系数(171)后建立虚拟量测模型单元(180)。