[发明专利]真空处理装置

摘要

一种真空处理装置，包括：第一输送容器，所述第一输送容器连接到连接于大气输送容器的背面侧的锁定室的后方侧，在内部具有输送晶片的第一机器人；第二输送容器，所述第二输送容器配置在该第一输送容器的后方侧，与该第一输送室连接，在内部具有输送前述晶片的第二机器人；中转容器，所述中转容器将前述第一输送容器和第二输送容器之间连接，在内部备有在前述第一及第二机器人之间交接前述晶片的容纳部；处理容器，所述处理容器连接到与第二输送容器的周围的前述中转容器大致成直角侧，在内部的处理室中，处理前述晶片；前述第一机器人，具有分别独立地、在夹持旋转轴的两侧的方向上伸缩的两个臂，前述第二机器人，具有分别在围绕旋转轴的同一个方向上伸缩的两个臂。

主权项

一种真空处理装置，包括：大气输送容器，所述大气输送容器在前表面侧配置有载置内部容纳有作为处理对象的晶片的盒的盒台，并且在大气压下在其内部输送前述晶片；至少一个锁定室，所述锁定室在前述大气输送容器的背面侧与之连接并且并列地配置，能够在大气压力和被减压的压力之间调节能够容纳前述晶片的内部的压力；第一输送容器，所述第一输送容器在前述锁定室的后方侧与之连接，具有在被减压到规定的真空度的内部输送前述晶片的第一机器人；第二输送容器，所述第二输送容器，配置在该第一输送室的后方侧，与该第一输送室连接，具有在被减压到前述真空度的内部输送前述晶片的第二机器人；中转容器，所述中转容器位于前述第一输送容器与第二输送容器之间，在隔着前述第一输送容器而与前述锁定室相反的一侧将它们连接起来配置，在气密性地被密封的内部配备有容纳部，该容纳部在前述第一及第二机器人之间交接前述晶片；处理容器，所述处理容器连接到与第二输送容器的周围的前述中转容器大致成直角侧，在内部的处理室处理前述晶片；前述第一机器人具有两个臂，所述两个臂的每一个的根部可围绕配置在前述第一输送容器内的轴旋转地配置，在前端部配置有晶片保持部，并且在夹持前述轴的两侧的方向上伸缩，使前述晶片保持部移动，所述第二机器人具有两个臂，所述两个臂的每一个的根部可围绕配置在前述第二输送容器内的轴旋转地配置，在前端部配置有晶片保持部，并且在围绕所述轴的相同的方向上伸缩，使前述晶片保持部移动。