[发明专利]液晶显示面板的薄膜晶体管基板与其制作方法有效
申请号: | 201010257674.1 | 申请日: | 2010-08-17 |
公开(公告)号: | CN101976655A | 公开(公告)日: | 2011-02-16 |
发明(设计)人: | 侯胜雄 | 申请(专利权)人: | 华映视讯(吴江)有限公司;中华映管股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/77 | 分类号: | H01L21/77;G03F7/00;H01L27/12;G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 孙长龙 |
地址: | 215217 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供一种液晶显示面板的薄膜晶体管基板与其制作方法。此液晶显示面板的薄膜晶体管基板包括一基板、一储存电容电极、一第一绝缘层、一栅极、一栅极绝缘层、一图案化半导体层、一源极与一漏极、一第二绝缘层、以及至少一像素电极。其中,部分的像素电极与部分的储存电容电极彼此重迭,以形成一储存电容,且储存电容电极包括一图案化透明导电层与一图案化不透明导电层。再者,图案化透明导电层与图案化不透明导电层的设置位置由一灰阶光罩定义,并且图案化透明导电层的面积大于图案化不透明导电层的面积,以提升开口率。 | ||
搜索关键词: | 液晶显示 面板 薄膜晶体管 与其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种液晶显示面板的薄膜晶体管基板的制作方法,其特征在于,包括:提供一基板;于该基板上形成一透明导电层与一不透明导电层,其中该不透明导电层设置于该透明导电层上;利用一灰阶光罩,图案化该透明导电层与该不透明导电层,以形成至少一储存电容电极,其中该储存电容电极包括一图案化透明导电层与一图案化不透明导电层,且该图案化透明导电层的面积大于该图案化不透明导电层的面积;于该储存电容电极上形成一第一绝缘层;于该基板上形成至少一栅极;于该栅极上依序至少形成一栅极绝缘层、一图案化半导体层、一源极与一漏极、以及一第二绝缘层;以及于该第二绝缘层与该第一绝缘层上形成至少一像素电极,其中部分该像素电极与部分该储存电容电极彼此重迭,以形成一储存电容。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造