[发明专利]一种用于坡面型刻蚀装置的刻蚀组合物及其使用方法无效
| 申请号： | 201010254850.6 | 申请日： | 2010-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN102373473A | 公开（公告）日： | 2012-03-14 |
| 发明（设计）人： | 朴英哲;秦荣晙;李俊雨 | 申请（专利权）人： | 东友FINE-CHEM股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/16 | 分类号： | C23F1/16;C23F1/18;C23F1/20;C23F1/26;C23F1/30 |
| 代理公司： | 上海旭诚知识产权代理有限公司 31220 | 代理人： | 郑立;高为华 |
| 地址： | 韩国全罗*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请公开了一种用于坡面型刻蚀装置的刻蚀组合物，包括：64～72wt％的磷酸；4～8wt％的硝酸；4～15wt％的乙酸；0.1～3wt％的选自由硝酸钾、乙酸钾和磷酸钾所组成的组的至少一种钾盐化合物；和余量水。所述刻蚀组合物可在使用坡面型刻蚀装置例如坡面型基板处理装置刻蚀基板的过程中展示在基板的整个表面上均匀刻蚀的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 坡面型 刻蚀 装置 组合 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
一种用于坡面型刻蚀装置的刻蚀组合物，包含：64～72wt％的磷酸；4～8wt％的硝酸；4～15wt％的乙酸；0.1～3wt％的选自由硝酸钾、乙酸钾和磷酸钾所组成的组的至少一种钾盐化合物；和余量水。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东友FINE-CHEM股份有限公司，未经东友FINE-CHEM股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010254850.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
