[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 201010249792.8 | 申请日： | 2005-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN101916050A | 公开（公告）日： | 2010-12-15 |
| 发明（设计）人： | J·洛夫;J·C·H·穆肯斯;J·J·S·M·梅坦斯;A·J·范德米特;R·范德哈姆;N·拉勒曼特;M·贝克斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻投影装置。该装置包括一配置成调节辐射光束的照射系统和一配置成支撑构图部件的支撑结构。该构图部件用于在辐射光束的横截面将图案赋予给辐射光束。该装置还包括一配置成保持基底的基底台，一配置成将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统，以及一配置成将流体提供给一个容积的流体供给系统。该容积包括至少一部分投影系统和/或至少一部分照射系统。该装置还包括一配置成将流体供给系统连接到基底台、基底、支撑结构、构图部件、或其任何组合的连接部件。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻装置，包括：一配置成调节辐射光束的照射系统；一配置成支撑构图部件的支撑结构，该构图部件在辐射光束的横截面将图案赋予给辐射光束；一配置成保持基底的基底台；一配置成将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统；一配置成将流体提供给一个容积的流体供给系统，该容积包括至少一部分投影系统，至少一部分照射系统，或上述两者；以及一配置成将流体供给系统连接到基底台、基底、支撑结构、构图部件、或其任何组合的连接部件。
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