[发明专利]光刻装置和器件制造方法

权利要求书

1.一种光刻装置，包括：

一配置成调节辐射光束的照射系统；

一配置成支撑构图部件的支撑结构，该构图部件在辐射光束的横截面将图案赋予给辐射光束；

一配置成保持基底的基底台；

一配置成将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统；

一配置成将流体提供给一个容积的流体供给系统，该容积包括至少一部分投影系统，至少一部分照射系统，或上述两者；以及

一配置成将流体供给系统连接到基底台、基底、支撑结构、构图部件、或其任何组合的连接部件。

2.如权利要求1所述的光刻装置，其中流体供给系统包括一配置成提供气体给净化容积的气体净化系统，该净化容积包括一部分投影系统、至少一部分照射系统，或者上述两者。

3.如权利要求1所述的光刻装置，其中流体供给系统包括一配置成将液体提供到投影系统和基底的局部区域之间的空间的供液系统。

4.如权利要求1所述的光刻装置，其中在使用中，基底台、基底、支撑结构、构图部件或其任何组合布置在一个由第一和第二不同方向限定的区域中，其中流体供给系统沿第三方向与基底台、基底、支撑结构、构图部件或其任何组合连接，该第三方向与上述区域成一角度延伸。

5.如权利要求4所述的光刻装置，其中第一、第二和第三方向大体上相互垂直。

6.如权利要求4所述的光刻装置，其中在使用中流体供给系统沿第三方向、围绕第一方向的旋转方向和围绕第二方向的旋转方向与基底台、基底、支撑结构、构图部件或其任何组合挠性地连接。

7.如权利要求4所述的光刻装置，其中在使用中流体供给系统沿第一方向、第二方向和围绕第三方向的旋转方向与投影系统、照射系统、参考构架或其任何组合刚性地连接。

8.如权利要求1所述的光刻装置，其中连接部件包括一气体轴承。

9.如权利要求8所述的光刻装置，其中气体轴承配置成提供一个密封，以便至少防止流体溢出流体供给系统。

10.如权利要求8所述的光刻装置，其中气体轴承配置成提供一大体上封闭的流体隔室。

11.如权利要求8所述的光刻装置，其中在使用中，气体轴承在布置成接收带图案的光束的基底表面和流体供给系统之间提供至少一个稳定和微小的间隙。

12.如权利要求8所述的光刻装置，其中在使用中，气体轴承在布置成接收辐射光束的构图部件表面和流体供给系统之间提供至少一个稳定和微小的间隙。

13.如权利要求8所述的光刻装置，其中气体轴承包括一配置成调节气体流量和/或压力的控制元件，以便控制布置成接收投射光束的基底表面和流体供给系统之间的间隙尺寸。

14.如权利要求8所述的光刻装置，其中气体轴承包括一配置成调节气体流量和/或压力的控制元件，以便控制布置成接收辐射光束的构图部件表面和流体供给系统之间的间隙尺寸。

15.如权利要求8所述的光刻装置，其还包括一配置成提供气体给气体轴承的气体供给，配置成从气体轴承去除气体的至少部分真空，以及一配置成控制气体供给和至少部分真空的控制元件，使得流体供给系统沿与一区域成一角度延伸的第三方向浮动在具有足够硬度的基底、基底台或上述两者的表面上，所述区域由第一方向和第二方向限定，其中布置有基底台。

16.如权利要求8所述的光刻装置，其还包括一配置成提供气体给气体轴承的气体供给，配置成从气体轴承去除气体的至少部分真空，以及一配置成控制气体供给和至少部分真空的控制元件，使得流体供给系统沿与一区域成一角度延伸的第三方向浮动在具有足够硬度的至少构图部件、支撑结构或上述两者的表面上，所述区域由第一方向和第二方向限定，其中布置有支撑结构。

17.如权利要求8所述的光刻装置，其中流体供给系统包括一气体净化系统，其配置成将气体提供给一净化容积，该净化容积包括至少一部分投影系统、至少一部分照射系统或上述两者，其中净化系统包括一净化罩，还包括一配置成沿第三方向提升净化罩的致动装置，该第三方向沿与一区域成一角度的方向延伸，在该区域中布置了基底台、支撑结构或上述两者。