[发明专利]一种含苯并噻嗪结构的方酸菁染料及其制备方法无效
| 申请号： | 201010241755.2 | 申请日： | 2010-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN101906253A | 公开（公告）日： | 2010-12-08 |
| 发明（设计）人： | 邢欣;张东玖;周永江;楚增勇;郑文伟;张朝阳;程海峰 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军国防科学技术大学 |
| 主分类号： | C09B21/00 | 分类号： | C09B21/00 |
| 代理公司： | 长沙星耀专利事务所 43205 | 代理人： | 赵静华 |
| 地址： | 410073 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种含苯并噻嗪结构的方酸菁染料及其制备方法。是由噻嗪环化合物与方酸按摩尔比=2∶1混合，加入苯与正丁醇的混合溶剂，在3~5ml喹啉或吡啶的催化下；搅拌回流12~48h进行缩合反应而成。本发明在近红外吸收的吸收波长为700~1100nm。其光热及化学稳定性能优异，与有机基体材料相容性好，对人体副作用小；是一种光学性能优异的新型染料，在近红外激光防护、生物分子荧光标记、光电功能材料、激光静电复印材料、染料激光器等领域具有广泛的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 结构 方酸菁 染料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.含苯并噻嗪结构的方酸菁染料，其特征在于，是由苯并噻嗪环化合物与方酸按摩尔比=2∶1进行缩合反应得到具有以下结构式的产品；![]()
式中R1 、R2为氢原子、硝基，链烃烷基，芳香基团；R3 、R4为氢原子、链烃烷基、氨基、单取代氨基、N,N-二烷取代氨基和酰氨基。
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