[发明专利]稀土氢化物表面涂层处理剂、形成涂层的方法及其应用无效

专利信息
申请号: 201010241737.4 申请日: 2010-07-30
公开(公告)号: CN101908397A 公开(公告)日: 2010-12-08
发明(设计)人: 岳明;刘卫强;杨敬山;孙浩;张东涛;张久兴 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: H01F1/057 分类号: H01F1/057;H01F1/08;H01F41/00;B22F1/00
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 沈波
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了稀土氢化物表面涂层处理剂、形成涂层的方法及其应用,用于提高烧结NdFeB磁体所矫顽力,属于磁性材料技术领域。所述涂层处理剂为稀土氢化物分散在甲醇或乙醇溶剂中形成的胶体溶液;将处理剂置入玻璃器皿中,然后将磁体浸入溶液中;将含有磁体的处理剂进行超声处理,使处理剂中的稀土氢化物均匀的涂敷在磁体表面,形成厚度均匀的表面涂层;随后,将形成稀土氢化物表面涂层的磁体从溶液中取出,采用风干的方式使磁体表面涂层中的溶剂挥发,形成涂层;将风干后的磁体置于真空热处理炉中,在550℃-950℃的温度范围内,进行0.5-2小时的热处理。本发明可以显著改善磁体的磁性能,特别是磁体的矫顽力。
搜索关键词: 稀土 氢化物 表面 涂层 处理 形成 方法 及其 应用
【主权项】:
稀土氢化物表面涂层处理剂,其特征在于,所述稀土氢化物表面涂层处理剂为将稀土氢化物均匀分散在甲醇或乙醇溶剂中形成的胶体溶液,稀土氢化物包括Pr、Nd、Tb、Dy、Ho氢化物中的至少一种,稀土氢化物的平均颗粒直径的范围是在10 100纳米之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京工业大学,未经北京工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010241737.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top