[发明专利]稀土氢化物表面涂层处理剂、形成涂层的方法及其应用无效
| 申请号: | 201010241737.4 | 申请日: | 2010-07-30 |
| 公开(公告)号: | CN101908397A | 公开(公告)日: | 2010-12-08 |
| 发明(设计)人: | 岳明;刘卫强;杨敬山;孙浩;张东涛;张久兴 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
| 主分类号: | H01F1/057 | 分类号: | H01F1/057;H01F1/08;H01F41/00;B22F1/00 |
| 代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人: | 沈波 |
| 地址: | 100124 *** | 国省代码: | 北京;11 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 稀土 氢化物 表面 涂层 处理 形成 方法 及其 应用 | ||
1.稀土氢化物表面涂层处理剂,其特征在于,所述稀土氢化物表面涂层处理剂为将稀土氢化物均匀分散在甲醇或乙醇溶剂中形成的胶体溶液,稀土氢化物包括Pr、Nd、Tb、Dy、Ho氢化物中的至少一种,稀土氢化物的平均颗粒直径的范围是在10-100纳米之间。
2.权利要求1的稀土氢化物表面涂层处理剂,其特征在于,所述的胶体溶液的浓度是0.1-2.0g/ml。
3.在金属磁体的表面上形成稀土氢化物表面涂层的方法,其特征在于,将平均颗粒直径范围在10-100纳米的稀土氢化物分散在甲醇或乙醇溶剂中形成胶体溶液,浓度是0.1-2.0g/ml,制备成稀土氢化物表面涂层的处理剂;将处理剂置入玻璃器皿中,然后将磁体浸入溶液中;将含有磁体的处理剂进行超声处理,使处理剂中的稀土氢化物均匀的涂敷在磁体表面,形成厚度均匀的表面涂层;随后,将形成稀土氢化物表面涂层的磁体从溶液中取出,采用风干的方式使磁体表面涂层中的溶剂挥发。
4.权利要求1的稀土氢化物表面涂层处理剂应用于磁体表面改善其磁性能的方法,其特征在于包括以下步骤:将磁体浸入稀土氢化物表面涂层处理剂中;将含有磁体的处理剂进行超声处理,使处理剂中的稀土氢化物均匀的涂敷在磁体表面,形成厚度均匀的表面涂层;随后,将形成稀土氢化物表面涂层的磁体从溶液中取出,采用风干的方式使磁体表面涂层中的溶剂挥发;将风干后的磁体置于真空热处理炉中,在550℃-950℃的温度范围内,进行0.5-2小时的热处理。
5.权利要求4的方法,其特征在于,所述磁体为含稀土的材料的磁体。
6.权利要求5的方法,其特征在于,所述含稀土的材料的磁体为烧结NdFeB磁体。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京工业大学,未经北京工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010241737.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





