[发明专利]光刻设备和测量两相流中的流量的方法有效
| 申请号： | 201010222695.X | 申请日： | 2010-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN101950129A | 公开（公告）日： | 2011-01-19 |
| 发明（设计）人： | P·J·克拉莫尔;A·J·范德耐特;E·H·E·C·尤麦伦;A·昆吉皮尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备和一种测量两相流中的流量的方法。光刻设备包括管道，用于其中通过两相流。提供流分离装置以将所述两相流分离成气流和液流。流量计测量在所述气流或所述液流中的流体流量。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 测量 两相 中的 流量 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，包括：管道，用于其中通过两相流；流分离装置，配置成将所述两相流分离成气流和液流；和第一流量计，配置成测量在所述气流或所述液流中的流体流量。
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