[发明专利]光刻设备和测量两相流中的流量的方法有效
| 申请号: | 201010222695.X | 申请日: | 2010-06-30 |
| 公开(公告)号: | CN101950129A | 公开(公告)日: | 2011-01-19 |
| 发明(设计)人: | P·J·克拉莫尔;A·J·范德耐特;E·H·E·C·尤麦伦;A·昆吉皮尔 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王波波 |
| 地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光刻 设备 测量 两相 中的 流量 方法 | ||
1.一种光刻设备,包括:
管道,用于其中通过两相流;
流分离装置,配置成将所述两相流分离成气流和液流;和
第一流量计,配置成测量在所述气流或所述液流中的流体流量。
2.根据权利要求1所述的光刻设备,还包括第二流量计,所述第二流量计配置成测量所述气流和液流中另一者中的流体流量。
3.根据权利要求1或2所述的光刻设备,还包括控制器,配置成根据由所述第一流量计和/或所述第二流量计测量的所述流体流量控制所述设备的至少一个参数。
4.根据权利要求3所述的光刻设备,其中,所述控制器配置成根据由所述第一流量计测得的、或由所述第二流量计测得的、或由所述第一流量计和所述第二流量计两者测得的流体流量的大小来调节所述至少一个参数。
5.根据权利要求3或4所述的光刻设备,其中,所述至少一个参数包括通过至少一个流量或压力调节装置或者流体泵的流量。
6.根据权利要求5所述的光刻设备,其中,所述控制器配置成控制所述至少一个参数,使得通过所述至少一个流量或压力调节装置或者流体泵的所述流量基本上等于由所述第一流量计测得的所述流量。
7.根据权利要求3-6中任一项所述的光刻设备,其中,所述至少一个参数包括衬底和配置用以将液体限制到投影系统和所述衬底之间的空间的液体限制结构之间的距离。
8.根据权利要求1-7中任一项所述的光刻设备,还包括再结合室,在所述再结合室内,被分离的气流和液流重新结合。
9.根据权利要求1-8中任一项所述的光刻设备,其中,所述管道始于在液体限制结构中的开口处。
10.一种测量两相流中的流量的方法,包括步骤:
将两相流分离成气流和液流;和
使用第一流量计来测量在所述气流或所述液流中的流体流量。
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