[发明专利]镀膜装置无效
申请号: | 201010206037.1 | 申请日: | 2010-06-22 |
公开(公告)号: | CN102296284A | 公开(公告)日: | 2011-12-28 |
发明(设计)人: | 裴绍凯 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/513 | 分类号: | C23C16/513;C23C16/455 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种镀膜装置,其包括:外壳,其设置有一用于通入第一反应气体的第一进气管以及一用于通入第二反应气体的第二进气管;反应装置,包括外筒及内筒,外筒收容于外壳内。外壳与外筒之间形成一个镀膜腔,外筒与内筒之间形成一个与第一进气管连通的第一腔体,内筒形成有一与第二进气管连通的第二腔体。外筒上开设有第一通孔、第二通孔及用于收容待镀基板的基板槽。第一通孔连通第一腔体与该镀膜腔。该内筒上设有多个对应第二通孔的导气管,每个导气管穿过第二通孔连通第二腔体与镀膜腔;及控制装置,其用于在预定的不同时间段内控制第一反应气体与第二反应气体分别通入所述第一腔体与所述第二腔体。 | ||
搜索关键词: | 镀膜 装置 | ||
【主权项】:
一种镀膜装置,其特征在于,其包括:外壳,呈中空状,其上设置有至少一个用于通入第一反应气体的第一进气管以及一个用于通入第二反应气体的第二进气管;反应装置,其包括一外筒及一内筒,该外筒收容于该外壳内,该内筒与该外筒同轴设置,该外壳与该外筒之间形成一个镀膜腔,该外筒与该内筒之间形成一个与该第一进气管连通的第一腔体,该第一腔体用于容纳第一反应气体;该内筒形成有一个与该第二进气管连通的第二腔体,该第二腔体用于收容第二反应气体;该外筒侧壁上开设有至少一个第一通孔、至少一个第二通孔及至少一个基板槽,该基板槽用于收容待镀基板并使得待镀基板暴露在镀膜腔内;该第一通孔连通该第一腔体与该镀膜腔以允许该第一腔体的第一反应气体沉积在基板上;该内筒上设有多个对应第二通孔的导气管,每个导气管穿过该第二通孔连通第二腔体与该镀膜腔以允许该第二反应气体沉积在基板上;及控制装置,其用于在预定的不同时间段内控制该反应装置内的第一反应气体与第二反应气体分别通入所述第一腔体与所述第二腔体,以使得第一反应气体与第二反应气体在不同时间段内沉积在基板上,从而获得多层膜。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的