[发明专利]曝光装置有效

专利信息
申请号: 201010200592.3 申请日: 2005-04-28
公开(公告)号: CN101846889B 公开(公告)日: 2012-05-09
发明(设计)人: 伊藤三好 申请(专利权)人: 株式会社V技术
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 上海市华诚律师事务所 31210 代理人: 徐申民
地址: 日本国神奈川县横*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的曝光装置,使从曝光光学系统照射的光束在与被曝光体的移动方向相正交的方向上相对地扫描,在该被曝光体上以规定的间距对功能图案进行曝光,其特征在于,包括:对预先形成于所述被曝光体上的、成为曝光位置基准的基准功能图案列进行拍摄的拍摄装置;以及光学系统控制手段,该光学系统控制手段进行下列图像处理:通过将所述拍摄装置取得的规定区域的所述基准功能图案列的图像数据复制于所述规定区域的后续区域,以补足无法由所述拍摄装置取得的基准功能图案的图像,然后对该生成的基准功能图案的列的图像构成的基准功能图案图像检测开始曝光或结束曝光的基准位置,以该基准位置为基准对所述光束的开始照射或停止照射进行控制。由此,在提高功能图案的重合精度的同时抑制曝光装置的成本升高。
搜索关键词: 曝光 装置
【主权项】:
一种曝光装置,使从曝光光学系统照射的光束在与被曝光体的移动方向相正交的方向上相对地扫描,在该被曝光体上以规定的间距对功能图案进行曝光,其特征在于,包括:对预先形成于所述被曝光体上的、成为曝光位置基准的基准功能图案列进行拍摄的拍摄装置;以及光学系统控制手段,该光学系统控制手段进行下列图像处理:通过将所述拍摄装置取得的规定区域的所述基准功能图案列的图像数据复制于所述规定区域的后续区域,以补足无法由所述拍摄装置取得的基准功能图案的图像,然后对该生成的基准功能图案的列的图像构成的基准功能图案图像检测开始曝光或结束曝光的基准位置,以该基准位置为基准对所述光束的开始照射或停止照射进行控制。
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