[发明专利]曝光装置有效
| 申请号: | 201010200592.3 | 申请日: | 2005-04-28 |
| 公开(公告)号: | CN101846889B | 公开(公告)日: | 2012-05-09 |
| 发明(设计)人: | 伊藤三好 | 申请(专利权)人: | 株式会社V技术 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司: | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人: | 徐申民 |
| 地址: | 日本国神奈川县横*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明的曝光装置,使从曝光光学系统照射的光束在与被曝光体的移动方向相正交的方向上相对地扫描,在该被曝光体上以规定的间距对功能图案进行曝光,其特征在于,包括:对预先形成于所述被曝光体上的、成为曝光位置基准的基准功能图案列进行拍摄的拍摄装置;以及光学系统控制手段,该光学系统控制手段进行下列图像处理:通过将所述拍摄装置取得的规定区域的所述基准功能图案列的图像数据复制于所述规定区域的后续区域,以补足无法由所述拍摄装置取得的基准功能图案的图像,然后对该生成的基准功能图案的列的图像构成的基准功能图案图像检测开始曝光或结束曝光的基准位置,以该基准位置为基准对所述光束的开始照射或停止照射进行控制。由此,在提高功能图案的重合精度的同时抑制曝光装置的成本升高。 | ||
| 搜索关键词: | 曝光 装置 | ||
【主权项】:
一种曝光装置,使从曝光光学系统照射的光束在与被曝光体的移动方向相正交的方向上相对地扫描,在该被曝光体上以规定的间距对功能图案进行曝光,其特征在于,包括:对预先形成于所述被曝光体上的、成为曝光位置基准的基准功能图案列进行拍摄的拍摄装置;以及光学系统控制手段,该光学系统控制手段进行下列图像处理:通过将所述拍摄装置取得的规定区域的所述基准功能图案列的图像数据复制于所述规定区域的后续区域,以补足无法由所述拍摄装置取得的基准功能图案的图像,然后对该生成的基准功能图案的列的图像构成的基准功能图案图像检测开始曝光或结束曝光的基准位置,以该基准位置为基准对所述光束的开始照射或停止照射进行控制。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社V技术,未经株式会社V技术许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010200592.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:发光二极管
- 下一篇:显示面板的薄膜晶体管及其制作方法





