[发明专利]曝光装置

说明书

本申请为下述申请的分案申请：

原申请的申请日：2005年4月28日

原申请的国家申请号：PCT/JP2005/008117(200580013348.3)

原申请的发明名称：曝光装置

技术领域

本发明涉及在被曝光体上对功能图案进行曝光的曝光装置，具体来说，通过用拍摄装 置拍摄预先形成于上述被曝光体上的、成为基准的功能图案上设定的基准位置并对其进行 检测，以该基准位置为基准对光束的开始照射或停止照射进行控制，来提高功能图案的重 合精度，同时设法抑制曝光装置其成本升高。

背景技术

现有曝光装置使用在玻璃基板上预先形成了与功能图案相当的掩模图案这种掩模，将 上述掩模图案复印曝光于被曝光体上，其中有例如步进(Stepper)装置、微镜投影(Mirror Projection)装置、或近接(Proximity)装置。但这些现有的曝光装置中，形成多层功能图 案层叠的情况，各层间功能图案的重合精度便成问题。尤其是大型液晶显示器用的TFT或 彩色滤色片其形成所用的大型掩模的情况下，要求掩模图案的排列具有较高的绝对尺寸精 度，故掩模成本升高。另外，为了获得上述重合精度，需要底层的功能图案和掩模图案两 者间对准，此对准尤其是对于大型掩模而言是难以做到的。

另一方面，有一种不用掩模、而是使用电子束或激光束将CAD数据的图案直接描绘 于被曝光体上的曝光装置。这种曝光装置具有激光光源；使该激光光源所发射的激光束往 复扫描的曝光光学系统；以及以承载着被曝光体的状态运送的运送装置，边根据CAD数 据控制激光光源的发射状态，边使激光束往复扫描，同时在与激光束扫描方向相正交的方 向上运送被曝光体，以便在被曝光体上以二维方式形成与功能图案相当的CAD数据的图 案(参照例如专利文献1)。

专利文献1：日本特開2001-144415号公报

发明内容

但这种直接描绘式的现有曝光装置中，要求CAD数据的图案排列具有较高的绝对尺 寸精度这一点与使用用掩模的曝光装置的情况同样，另外用多台曝光装置形成功能图案这 种制造工序中，当曝光装置间有精度误差存在时，存在功能图案的重合精度变差的问题。 因而，为了处置此类问题需要高精度的曝光装置，造成曝光装置成本提高。

此外，必须事先使得底层的功能图案和CAD数据的图案两者间对准这一点与使用掩 模的其它曝光装置同样，存在与前文所述同样的问题。

因此，本发明针对上述问题，其目的在于提供一种在提高功能图案的重合精度的同时 设法抑制曝光装置成本升高的曝光装置。

为达到上述目的，本发明的曝光装置，使从曝光光学系统照射的光束在与被曝光体的 移动方向相正交的方向上相对地扫描，在该被曝光体上以规定的间距对功能图案进行曝 光，其中包括：对预先形成于所述被曝光体上的、成为曝光位置基准的基准功能图案列进 行拍摄的拍摄装置；以及将所述拍摄装置取得的规定区域的所述基准功能图案列的图像数 据复制于所述规定区域的后续区域，以补足无法由所述拍摄装置取得的基准功能图案列的 图像，对该补足的基准功能图案列图像构成的基准功能图案图像检测开始曝光或结束曝光 的基准位置，以该基准位置为基准对所述光束的开始照射或停止照射进行控制的光学系统 控制手段。

利用上述构成，由光学系统控制手段将拍摄装置取得的规定区域的基准功能图案列的 图像数据复制于所述规定区域的后续区域，以补足无法由拍摄装置取得的基准功能图案的 图像，对该补足的基准功能图案列图像构成的基准功能图案图像检测开始曝光或结束曝光 的基准位置，以该基准位置为基准对所述光束的开始照射或停止照射进行控制。由此，即 便是无法在光束扫描方向上由拍摄装置取得形成于被曝光体上的全部基准功能图案的情 况下，仍然将规定的功能图案高精度形成于规定位置上。

而按照本发明，通过将用拍摄装置取得的规定区域的基准功能图案的图像数据复制于 规定区域的后续区域，以补足无法由拍摄装置取得的基准功能图案列的图像，从而即便是 例如拍摄装置的拍摄区域相对于光束的扫描区域较窄时，也能根据用该拍摄装置取得的图 像数据以完整的形式生成光束全部扫描区域内的图像数据。所以，对于无法由拍摄装置取 得的区域的基准功能图案列也能对规定的功能图案进行高精度的曝光，在将多层功能图案 层叠形成的情况下，各层功能图案的重合精度也得到提高，还可以减少拍摄装置数目，降 低装置成本。

附图说明