[发明专利]一种应用适应性的正电子发射断层成像方法及装置有效
| 申请号： | 201010200478.0 | 申请日： | 2010-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN101856236A | 公开（公告）日： | 2010-10-13 |
| 发明（设计）人： | 谢庆国;刘晶晶 | 申请（专利权）人： | 苏州瑞派宁科技有限公司;华中科技大学 |
| 主分类号： | A61B6/02 | 分类号： | A61B6/02 |
| 代理公司： | 南京众联专利代理有限公司 32206 | 代理人： | 赵枫 |
| 地址： | 215163 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种应用适应性的正电子发射断层成像方法及装置。本成像方法首先初扫描被检测对象，获得初步的活度信息；然后根据初扫描结果，规划并调整探测器模块，获得新的系统结构，并对新系统结构进行快速校正；再在新的系统结构下扫描，获取被检测对象的活度信息，若其质量满足应用需求，则结束扫描，否则，重新规划并调整探测器模块，并进行快速校正，在新结构下重新获得被检测对象的活度信息直至其质量满足应用需求。本成像装置包括探测器模块、探测器控制模块、图像重建模块和探测器规划模块。该成像方法能以较低的系统成本实现较高的系统性能，将系统性能提高了几倍到几十倍，节约系统建造成本，在被检测对象的感兴趣区域获取高质量图像。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 应用 适应性 正电子 发射 断层 成像 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种应用适应性的正电子发射断层成像方法，其特征是：所述成像方法步骤如下：Ⅰ、初扫描，获得被检测对象的初步的活度信息；Ⅱ、根据步骤Ⅰ获取的初扫描结果，规划探测器模块的性能、布局和成像参数，并调整探测器模块，获得新的系统结构，并对新的系统结构进行快速校正；Ⅲ、在新的系统结构下扫描，获取被检测对象的活度信息；Ⅳ、分析步骤Ⅲ获得的被检测对象的活度信息，若其质量能满足应用需求，则，结束扫描；否则，重新规划探测器模块的性能、布局和成像参数，并调整探测器模块，并进行快速校正，重复步骤Ⅲ-Ⅳ。
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