[发明专利]一种新型半导体发光二极管无效

专利信息
申请号: 201010183993.2 申请日: 2010-05-27
公开(公告)号: CN101867002A 公开(公告)日: 2010-10-20
发明(设计)人: 廖翊韬;云峰 申请(专利权)人: 常州美镓伟业光电科技有限公司;云峰
主分类号: H01L33/38 分类号: H01L33/38
代理公司: 南京众联专利代理有限公司 32206 代理人: 顾进
地址: 213164 江苏省常*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种半导体发光二极管,包括衬底、缓冲层、N型层、有源层、电子阻挡层、P型层,P型接触金属层,通过刻蚀穿透P型层、电子阻挡层、有源层等,将N型层材料直接暴露于P型材料一侧,并在暴露区域覆盖N型接触金属和电极,从而增强N型层中的横向电流扩散,同时P型金属覆盖整个P型半导体层,LED从衬底表面出光。通过上述改进:可大幅度缩短了电流在LED器件中的横向扩散距离,避免了电流拥塞引起的LED器件电流密度分布不均,使LED器件出光更加均匀,且根除了P型电极的遮光效应。
搜索关键词: 一种 新型 半导体 发光二极管
【主权项】:
一种新型半导体发光二极管,包括依次复合的衬底、缓冲层、N型层、有源层、电子阻挡层、P型层,P型接触金属层,其特征在于:在P型接触金属层表面,向衬底方法通过刻蚀等方法至少形成一个槽深至N型层的凹槽,所述凹槽的四周侧壁设有绝缘层,还设有一N型接触金属层,所述N型接触金属层通过绝缘层间隔复合在P型接触金属层表面,并随凹槽向N型层扩展延伸至两者直接接触连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于常州美镓伟业光电科技有限公司;云峰,未经常州美镓伟业光电科技有限公司;云峰许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010183993.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top