[发明专利]流体处理装置、浸没式光刻设备以及器件制造方法有效
| 申请号： | 201010162215.5 | 申请日： | 2010-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN101859072A | 公开（公告）日： | 2010-10-13 |
| 发明（设计）人： | E·H·E·C·尤姆麦伦;K·斯蒂芬斯;兼子毅之;G·M·M·考克恩 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种流体处理装置、浸没式光刻设备以及器件制造方法。具体地，公开了一种用于浸没式光刻设备的流体处理系统，其具有用以从浸没空间中去除浸没液体的流体去除装置，和用以去除浸没液体的液滴的液滴去除装置，其中：液滴去除装置比流体去除装置远离光学轴线，并且液滴去除装置包括面对例如被曝光的衬底和/或衬底台的多孔部件。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 处理 装置 浸没 光刻 设备 以及 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种浸没式光刻设备，包括：投影系统，其具有光学轴线；衬底台，其配置用于保持衬底，所述衬底、台或两者限定面对的表面；和流体处理结构，其配置成供给浸没液体到限定在所述投影系统和所述面对的表面之间的浸没空间，所述流体处理结构包括：流体去除装置，其布置成去除来自所述浸没空间的浸没液体；和液滴去除装置，其布置成去除浸没液体的液滴，其中：所述液滴去除装置较所述流体去除装置远离所述光学轴线，并且所述液滴去除装置包括面对所述面对的表面的多孔部件。
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