[发明专利]光源装置和投影机无效
| 申请号： | 201010161602.7 | 申请日： | 2010-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN101866101A | 公开（公告）日： | 2010-10-20 |
| 发明（设计）人： | 清水铁雄;长谷要;高城邦彦;江川明;高户雄二;木下悟志 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20;G03B21/16;F21V7/10 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 陈海红;刘瑞东 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及光源装置和投影机。本发明提供可向发光管中被副反射镜覆盖的部分吹附充分空气，抑制发光管的冷却不良导致的缺陷发生的光源装置。本发明的光源装置具有：具备出射光的发光部15、在发光部的一侧一体设置的第1密封部16和在发光部的另一例一体设置的第2密封部17的发光管；具备覆盖发光部的周围中的一部分并使从发光部出射的光反射的副反射面13a的副反射镜13；具备使从发光部出射的光和副反射镜反射的光反射的主反射面的主反射镜；其中，副反射镜具有，根据发光部和第1密封部的边界即第1边界线19确定的第1基准面20和副反射面不交叉的形状。 | ||
| 搜索关键词： | 光源 装置 投影机 | ||
【主权项】：
一种光源装置，其特征在于，具有：发光管，其具备出射光的发光部，在上述发光部的一侧一体设置的第1密封部和在上述发光部的另一侧一体设置的第2密封部；副反射镜，其具备覆盖上述发光部的周围中的一部分、使从上述发光部出射的光反射的副反射面；以及主反射镜，其具备使从上述发光部出射的光和上述副反射镜反射的光反射的主反射面；上述副反射镜具有第1基准面和上述副反射面不交叉的形状，上述第1基准面根据作为上述发光部和上述第1密封部的边界的第1边界线确定。
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