[发明专利]光源装置和投影机无效
申请号: | 201010161602.7 | 申请日: | 2010-04-14 |
公开(公告)号: | CN101866101A | 公开(公告)日: | 2010-10-20 |
发明(设计)人: | 清水铁雄;长谷要;高城邦彦;江川明;高户雄二;木下悟志 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | G03B21/20 | 分类号: | G03B21/20;G03B21/16;F21V7/10 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 陈海红;刘瑞东 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光源 装置 投影机 | ||
技术领域
本发明涉及光源装置和投影机,具体地说,涉及发光部的一部分被副反射镜覆盖的光源装置的技术。
背景技术
作为投影机的光源而使用的灯,例如,对超高压水银灯等的放电灯,采用将从发光管出射的光反射的反射镜。为了通过投影机效率良好地获得明亮图像,以前提出了用于提高从发光管出射光的利用效率的光源装置的构成。例如,提出了与作为主反射镜的反射镜独立地设置覆盖发光管的一部分的副反射镜的技术(例如,参照专利文献1)。副反射镜反射的光通过发光管后,入射于主反射镜,向前侧反射。从而,可以使从发光管出射的光效率良好地进入利用来自光源装置的光的光学系统并实现光源装置的薄型化。
专利文献1:日本专利第3350003号。
在投影机中采用的灯因供给的电能多而发热成为高温,因此对发光管吹附空气等以冷却发光管。但是,在具有副反射镜的构成的场合,发光管和副反射镜之间往往没有充分的间隙,无法对副反射镜覆盖的部分充分吹附空气,存在冷却不充分的情况。
投影机,例如,可存在正立状态使用和倒立状态使用的情况。投影机的使用状态若变化,光源装置的姿势也变化,与此伴随,发光管和副反射镜的位置关系也变化。特别地,在发光管的上侧被副反射镜覆盖的场合,在发光管和副反射镜之间容易滞留热量,容易导致冷却不充分。发光管中冷却不充分的部分的构成发光管的透明材料可能因热而结晶化,产生白色浑浊。
发明内容
本发明鉴于上述的问题而提出,目的是提供可向发光管中被副反射镜覆盖的部分吹附充分的空气,抑制发光管的冷却不良导致的缺陷的发生的光源装置及具有该光源装置的投影机。
为了解决上述课题、达成目的,本发明的光源装置,具有:具备出射光的发光部、在发光部的一侧一体设置的第1密封部和在发光部的另一侧一体设置的第2密封部的发光管;具有覆盖发光部的周围中的一部分、使从发光部出射的光反射的副反射面的副反射镜;以及具有使从发光部出射的光和副反射镜反射的光反射的主反射面的主反射镜;其中,副反射镜具有第1基准面和副反射面不交叉的形状,第1基准面根据作为发光部和第1密封部的边界的第1边界线确定。
副反射镜以第1基准面和副反射面不交叉的形状形成,因此,与以第1基准面和副反射面交叉的形状形成的场合相比,可以扩大副反射面的第1密封部侧的缘部和第1密封部的间隙。从而,可以向发光管中副反射镜覆盖的部分吹附充分的空气,并且向发光部吹附的空气容易进入发光部和副反射面的间隙,可以提高发光管的冷却效率。
另外,作为本发明的优选方式,第1基准面是包含发光部的中心点和第1边界线而构成的圆锥面。通过使第1基准面采用包含发光部的中心点和第1边界线而构成的圆锥面,可以扩大副反射面的第1密封部侧的缘部和第1密封部的间隙,提高发光管的冷却效率。
另外,作为本发明的优选方式,副反射镜具有根据发光部和第2密封部的边界即第2边界线确定的第2基准面和副反射面不交叉的形状。副反射镜以第2基准面和副反射面不交叉的形状形成,因此,与以第2基准面和副反射面交叉的形状形成的场合相比,可以扩大副反射面的第2密封部侧的缘部和第2密封部的间隙。该间隙若扩大,则例如从第1密封部侧吹附而通过发光部和副反射面的间隙的空气容易向副反射镜的外侧漏出。从而,可以使发光部和反射面之间的空气的流向圆滑,提高发光管的冷却效率。
另外,作为本发明的优选方式,第2基准面是包含发光部的中心点和第2边界线而构成的圆锥面。通过使第2基准面采用包含发光部的中心点和第2边界线而构成的圆锥面,可以扩大副反射面的第2密封部侧的缘部和第2密封部的间隙,提高发光管的冷却效率。
另外,作为本发明的优选方式,还具有与副反射镜一体形成并覆盖第2密封部的一部分的延伸部,在副反射镜的另一侧和延伸部的至少一方形成有开口。为了进行光源装置中的副反射镜的定位、固定,有在副反射镜的另一侧形成延伸部的情况。即使在该情况下,通过在副反射镜的另一侧及延伸部的至少一方形成开口,可以使通过发光部和副反射面之间的空气容易向副反射镜的外侧漏出。从而,可以使发光部和反射面之间的空气的流向圆滑,提高发光管的冷却效率。
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