[发明专利]辐射敏感组合物有效
| 申请号： | 201010153239.4 | 申请日： | 2010-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN102236254A | 公开（公告）日： | 2011-11-09 |
| 发明（设计）人： | 叶景裕;杨明华;林明贤;陈世杰 | 申请（专利权）人： | 品青企业股份有限公司;王童基;叶景裕 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/09 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 梁挥;徐金国 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种辐射敏感组合物，该组合物是由改性成膜树脂、共聚合高分子、酸生成剂及辐射吸收性染料等组成。将此组合物涂布于适当基材上，经过烘烤、曝光及显影后，可得到图像。此图像具有良好的硬度、耐磨耗性、接着性、耐印量，并可增加显影宽容值。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 敏感 组合 | ||
【主权项】：
1.一种辐射敏感组合物，施用在一基板上形成图像层，其特征在于：该组合物是含有通式(I)酚醛树脂与通式(II)内酯结构反应改性的成膜树脂，或通式(III)聚羟基(甲基)苯乙烯树脂与通式(II)内酯结构反应改性的成膜树脂，其结构如下所示：通式(I)![]()
其中Q为H、C1～C2的烷基；D为H、OH、C1～C8的烷基、环烷基、烷氧基或苯基；p＝1、2或3；通式(II)![]()
其中x＝0～17的整数；R3、R4、R5分别为H、C1～C20的烷基、环烷基、烷氧基或苯基；及通式(III)![]()
其中E为H、CH3，t为1～5的整数。
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