[发明专利]辐射敏感组合物

权利要求书

1.一种辐射敏感组合物，施用在一基板上形成图像层，其特征在于：该组合物是含有通式(I)酚醛树脂与通式(II)内酯结构反应改性的成膜树脂，或通式(III)聚羟基(甲基)苯乙烯树脂与通式(II)内酯结构反应改性的成膜树脂，其结构如下所示：

通式(I)

其中Q为H、C1～C2的烷基；D为H、OH、C1～C8的烷基、环烷基、烷氧基或苯基；p＝1、2或3；

通式(II)

其中x＝0～17的整数；R₃、R₄、R₅分别为H、C1～C20的烷基、环烷基、烷氧基或苯基；及

通式(III)

其中E为H、CH₃，t为1～5的整数。

2.如权利要求1所述的辐射敏感组合物，该成膜树脂为酚醛树脂与内酯反应改性后的树脂，其结构如下所示：

其中，Q为H、C1～C2的烷基；D为H、OH、C1～C8的烷基、环烷基、烷氧基或苯基；p＝0、1、2或3；r为1～4的整数，且p+r＝4；x＝0～17的整数；R₃、R₄、R₅分别为H、C1～C20的烷基、环烷基、烷氧基或苯基。

3.如权利要求1所述的辐射敏感组合物，该成膜树脂为聚羟基(甲基)苯乙烯树脂与内酯反应改性后的树脂，其结构如下所示：

其中E为H、CH₃；s为1～5的整数；t为整数，且s+t＝5；x＝0～17的整数；R₃、R₄、R₅分别为H、C1～C20的烷基、环烷基、烷氧基或苯基。

4.如权利要求1所述的辐射敏感组合物，还包含辐射吸收性染料、共聚合高分子、溶剂、表面活性剂、着色剂、湿润剂、酸生成剂或其组合。

5.如权利要求1所述的辐射敏感组合物，其中，该基板是一印刷用版。