[发明专利]一种具有密度梯度孔的中空纤维膜及制法在审
申请号: | 201010153150.8 | 申请日: | 2010-04-23 |
公开(公告)号: | CN101890307A | 公开(公告)日: | 2010-11-24 |
发明(设计)人: | 奚韶锋;洪耀良;陈翠仙 | 申请(专利权)人: | 苏州膜华材料科技有限公司 |
主分类号: | B01D71/34 | 分类号: | B01D71/34;B01D69/08 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215200 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种聚偏氟乙烯多孔中空纤维膜及其制备方法,其制膜的配方成份及其含量以质量百分比计:第一聚合物P1:聚偏氟乙烯(PVDF)25~45%;第二聚合物P2:聚乙烯吡咯烷酮(PVP)0~3%;第一稀释剂D1:乙二醇二乙酸酯32~45%;第二稀释剂D2:1,3-丙二醇15~36%;采用本发明制备的PVDF中空纤维超、微滤膜,具有优良的化学稳定性,抗污染、强度高的中空纤维膜,能为MBR工艺提供高性能的膜产品。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 密度 梯度 中空 纤维 制法 | ||
【主权项】:
一种聚偏氟乙烯多孔中空纤维膜,其制膜的成份及其含量以质量百分比计:第一聚合物P1:聚偏氟乙烯(PVDF) 25~45%第二聚合物P2:聚乙烯吡咯烷酮(PVP) 0~3%第一稀释剂D1:乙二醇二乙酸酯 32~45%第二稀释剂D2:1,3‑丙二醇 15~36%。
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