[发明专利]以离子束均匀布植晶圆的方法

摘要

本发明是有关于一种以离子束均匀布植晶圆的方法，首先，在晶圆上形成带状的离子束，其中，带状离子束具有沿着第一轴的长度与沿着第二轴的宽度，在此，长度大于晶圆的直径而宽度小于晶圆的直径。然后，沿着通过离子束的一扫描路径，以一移动速度移动晶圆中心，且同时以一旋转速度旋转该晶圆。在同时移动与旋转的期间中，当晶圆通过离子束时，此晶圆被沿着第一轴的离子束完全覆盖，且旋转速度最多是移动速度的数倍。移动速度与旋转速度均可以是常数，或者为相对于离子束在晶圆的一位置的一函数。

主权项

一种以离子束均匀布植晶圆的方法，其特征在于其包括以下步骤：形成具有一带状形状的一离子束，其中，该带状形状具有沿着一第一轴的一长度与沿着一第二轴的一宽度，该长度大于该晶圆的一直径，该宽度小于该晶圆的该直径；以及沿着通过该离子束的一扫描路径，以一移动速度移动该晶圆的一中心，且同时以一旋转速度旋转该晶圆，其中，当该晶圆通过该离子束时，在沿着该第一轴的方向该晶圆被该离子束完全覆盖，其中，该旋转速度最多是该移动速度的数倍。