[发明专利]含咪唑基团的磺化聚苯并噻唑及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201010142186.6 申请日: 2010-04-09
公开(公告)号: CN101798387A 公开(公告)日: 2010-08-11
发明(设计)人: 谭宁;肖谷雨;颜德岳 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: C08G75/32 分类号: C08G75/32;C08G73/18;B01D71/66
代理公司: 上海交达专利事务所 31201 代理人: 王锡麟;王桂忠
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种化工技术领域的含咪唑基团的磺化聚苯并噻唑及其制备方法,结构式如下式:所述含咪唑基团的磺化聚苯并噻唑及其制备方法,包括:步骤一,取芳香二胺基二巯基盐酸盐单体,在惰性气体如氮气或氩气进行脱除氯化氢;步骤二,向反应瓶中加入磺化二羧基单体、二羧基单体和芳香四胺单体,升温使所有原料发生聚合反应,制备得到含咪唑基团的磺化聚苯并噻唑。本发明大大改善聚合物的溶解性,聚合物中的咪唑基团与磺酸基团之间的酸碱相互作用,有利于改善这些聚合物膜的其他综合性能,如溶胀率、力学性能、耐氧化性等。;其中,M为锂、钠、钾、铷、铯或铵离子;m≥1,n≥1,x+y≥1,m+n+x+y>10。
搜索关键词: 咪唑 基团 磺化 噻唑 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种含咪唑基团的磺化聚苯并噻唑,其特征在于,其结构式如下:其中,M为锂、钠、钾、铷、铯或铵离子;m≥1,n≥1,x+y≥1,m+n+x+y>10;Ar1结构如下:Ar2结构如下:Ar3结构如下:邻位,对位或间位1,4位,2,3位,2,6位或2,7位2,2’位,3,3’位或4,4’位,其中,Y=-,O,SO2,CO,C(CH3)2或C(CF3)2邻位,对位或间位,其中,Y=-,O,SO2或CO;Ar4结构如下:
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