[发明专利]一种有机-无机杂化三阶非线性光学晶体材料及其合成方法无效
| 申请号： | 201010140796.2 | 申请日： | 2010-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN102212879A | 公开（公告）日： | 2011-10-12 |
| 发明（设计）人： | 周云山;汤万旭;张立娟;李豫豪 | 申请（专利权）人： | 北京化工大学 |
| 主分类号： | C30B29/00 | 分类号： | C30B29/00;G02F1/355 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 沈波 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种有机-无机杂化三阶非线性光学晶体材料及其制备方法，所述的光学晶体材料即谷氨酸内修饰的巨轮型纳米多酸晶体的分子式为Na2Gd4[Mo126Mo28O462H14(H2O)42(HOOCCH2CH2CH(NH3+)COO-)14]·ca.300H2O；制备方法：在搅拌条件下，将GdCl3水溶液与Na2MoO4水溶液混合后有白色沉淀生成，将白色沉淀抽滤并用水冲洗；L-谷氨酸钠溶于盐酸溶液中，依次将上述白色沉淀和盐酸肼加入到上述L-谷氨酸钠的盐酸溶液中，盐酸肼与L-谷氨酸钠摩尔比为1∶9.4，于70℃的水浴中加热3h，溶液冷至室温过滤，所得溶液三天后得到蓝色方晶体，过滤，所得固体洗涤，自然风干即可。本发明所的光学晶体材料具有较大的非线性吸收及非线性折射系数，具有自聚焦性能，在常温下非常稳定，合成方法简单，原料易得，产率高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 有机 无机 杂化三阶 非线性 光学 晶体 材料 及其 合成 方法 | ||
【主权项】：
一种有机‑无机杂化三阶非线性光学晶体材料，其特征在于，其为谷氨酸内修饰的巨轮型纳米多酸晶体，分子式为Na2Gd4[MoVI126MoV28O462H14(H2O)42(HOOCCH2CH2CH(NH3+)COO‑)14]·ca.300H2O
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