[发明专利]镁合金蚀刻溶液配方无效
| 申请号： | 201010131321.7 | 申请日： | 2010-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN102199772A | 公开（公告）日： | 2011-09-28 |
| 发明（设计）人： | 杨升攀;方高宏;郭雪梅 | 申请（专利权）人： | 汉达精密电子（昆山）有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/22 | 分类号： | C23F1/22;C23F1/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种镁合金蚀刻溶液配方，其主要包括：硝酸100-110g/L、硝酸钠25-35g/L、表面活性剂0.02-0.1g/L，本发明的镁合金蚀刻溶液配方，其中表面活性剂可以降低蚀刻液体的表面张力，改善对被蚀刻物上的图形或文字的浸润性，以便提高蚀刻的速度。 | ||
| 搜索关键词： | 镁合金 蚀刻 溶液 配方 | ||
【主权项】：
一种镁合金蚀刻溶液配方，其特征在于，主要包括：硝酸 100‑110g/L；硝酸钠 25‑35g/L；表面活性剂 0.02‑0.1g/L。
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