[发明专利]一种NMOS管辅助触发的可控硅电路无效

专利信息
申请号: 201010130833.1 申请日: 2010-03-23
公开(公告)号: CN101834181A 公开(公告)日: 2010-09-15
发明(设计)人: 宋波;韩雁;董树荣;马飞;黄大海;李明亮;苗萌 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;H01L29/06;H01L23/60
代理公司: 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人: 胡红娟
地址: 310027 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种NMOS管辅助触发的可控硅电路,用于核心电路的ESD防护,包括内嵌NMOS管的可控硅以及由NMOS管和PMOS管组成的反相器;反相器的输入端接核心电路的VDD电源线。在ESD情况下,由于本发明电路内嵌的NMOS能够导通,可以提供大的电流,从而触发可控硅,因此内嵌的NMOS管的尺寸可以做的比较小。这样该防护电路不仅能够在较低的电压下触发泄放静电,也能在电路正常工作时具有小的漏电。
搜索关键词: 一种 nmos 辅助 触发 可控硅 电路
【主权项】:
一种NMOS管辅助触发的可控硅电路,用于核心电路的ESD防护,其特征在于:包括内嵌NMOS管的可控硅以及由NMOS管(Mn)和PMOS管(Mp)组成的反相器;所述的内嵌NMOS管的可控硅包括P型衬底(21),P型衬底(21)上注有P阱(22)和N阱(26),P阱(22)中从外向内依次设有第一P+注入区(24a)、第四N+注入区(25d)、第三N+注入区(25c)、第三P+注入区(24c)以及第一N+注入区(25a),N阱上从外向内依次设有第二N+注入区(25b)和第二P+注入区(24b),除第四N+注入区(25d)和第三N+注入区(25c)之间外,所有注入区通过浅沟槽(23)隔离,第四N+注入区(25d)和第三N+注入区(25c)之间的P阱(22)上设有层叠的SiO2氧化层(27)和多晶硅层(28);NMOS管(Mn)和PMOS管(MP)的栅极连接核心电路的VDD电源线,NMOS管(Mn)和PMOS管(MP)的漏极连接多晶硅层(28),第一P+注入区(24a)、第一N+注入区(25a)、NMOS管(Mn)的源极和衬底接地,第二P+注入区(24b)、PMOS管(Mp)的源极和衬底连接核心电路的输入端;第四N+注入区(25d)与第二N+注入区(25b)相连接,第三N+注入区(25c)与第三P+注入区(24c)相连接。
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