[发明专利]光学物品及其制造方法无效
| 申请号： | 201010129480.3 | 申请日： | 2010-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN101825728A | 公开（公告）日： | 2010-09-08 |
| 发明（设计）人： | 西本圭司;野口崇;关浩幸 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 丁香兰;庞东成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种光学物品及其制造方法，所述光学物品具有抗静电性优异、能够抑制异物附着的滤光层。本发明提供一种光学多层膜滤光片(10)，其具有基材(1)和在该基材(1)上形成的透光性的滤光层(2)，滤光层(2)的一个层(21)的表层域(23)通过添加硅而低电阻化。该光学多层膜滤光片样品的薄层电阻充分低于有可能附着异物的1×1012Ω/sq，表现出优异的抗静电性，能够提供异物的附着少的光学物品。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 物品 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光学物品的制造方法，所述光学物品具有直接或隔着其他层在光学基材上形成的滤光层，所述滤光层使规定波段的光透过而将波长长于和/或短于所述规定波段的光屏蔽，其中，所述光学物品的制造方法具有下述步骤：形成所述滤光层所含有的第1层；和通过在所述第1层的表面添加碳、硅和锗的至少任意之一来实施低电阻化。
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