[发明专利]光学物品及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及具备滤光功能的光学物品及其制造方法。

背景技术

专利文献1中记载了如下内容：为了提供不使光学性质劣化而能够长期保持抗静电效果的光学多层膜滤光片、和简便地制造该滤光片的光学多层膜滤光片的制造方法、以及组装有这样的光学多层膜滤光片的电子机器装置，将光学多层膜滤光片的构成由形成在基板上的多个层组成的无机薄膜的最表层的二氧化硅层的密度设定为1.9～2.2g/cm³。

专利文献1：日本特开2007-298951号公报

对于专利文献1的光学多层膜滤光片，通过改变蒸镀时的真空度，使最表层的SiO₂膜的密度降低，由此降低薄层电阻(シ一ト抵抗)，提供具有抗静电性的光学多层膜滤光片。但是，为了进一步降低异物附着的可能性，希望进一步设定成低电阻。此处所说的“设定成低电阻”是指减小薄层电阻。

已有方案提出在光学物品中使用作为透明电极的ITO膜来设定成低电阻。但是，ITO膜在某些用途下的耐久性、特别是对相当于汗等的酸或碱等化学药品的耐久性有时令人担心。还有提案提出层积贵金属的薄膜，但在制造成本方面有时存在问题。

发明内容

本发明的一个实施方式是光学物品的制造方法，所述光学物品具有直接或隔着其他层在光学基材上形成的滤光层，所述滤光层使规定波段的光透过而将波长长于和/或短于规定波段的光屏蔽。该制造方法具有下述步骤：形成滤光层所含有的第1层；和通过在第1层的表面添加碳、硅(silicon)和锗的至少任意之一来实施低电阻化。碳、硅和锗作为常见制品的材料、半导体基板的材料等使用，是能够以较低成本获得的材料。并且，可以通过蒸镀(离子辅助蒸镀)、溅射等较简单的方法将这些材料(组合物)添加在层的表面。进而，通过添加于层的表面而使层的表面受碳、硅或锗的作用改性时，则能够降低所述层表面(表层域)的电阻。另外，碳、硅和锗与过渡金属形成化合物，大多数情况下形成的化合物为低电阻物质。因此，通过在第1层的表面添加碳、硅和锗，在第1层的表层域形成化合物，从而将表层域设定成低电阻。

进而，通过对第1层的表面改性，能够将对第1层的光学性能的影响控制在最小限度。即便在碳、硅和锗的添加有可能导致第1层的光吸收率降低的情况下，也能够调整添加量以将光吸收率的降低控制在滤光层的光学性质的允许范围内。

因此，通过采用该制造方法，可以在将对滤光层的光学性能的影响控制在最小限度的同时将电阻率降低到与贵金属或ITO相当或接近的水平，经济地提供具有优异的抗静电效果的光学物品。

第1层优选为含有能与碳、硅和锗的至少任意之一形成化合物的过渡金属的层。由于由为了实施低电阻化而添加的成分和第1层所含有的成分来形成导电性的成分，所以所形成的成分与第1层在机械和/或化学上的差异小的可能性高，易于制造具备机械和/或化学上更加稳定的滤光层的光学物品。

实施低电阻化的步骤中也可以进一步包括将用于与碳、硅和锗的至少任意之一形成化合物的过渡金属添加于第1层的表面的步骤。通过使化合物形成于第1层的表面(表层区域)，能够进一步降低电阻率，提高表层的机械和/或化学上的稳定性。

典型的一种滤光层是含有第1层的多层膜。本发明的制造方法也可以进一步包括在第1层上叠置形成多层膜的其他层的步骤。在化合物由添加的成分和第1层所含有的成分形成的情况下，能够减小与第1层上叠置形成的其他层在机械和/或化学上的差异。因此，能够提供具备电阻率低、性能更加稳定的滤光层的光学物品。

本发明的其他实施方式之一是具有光学基材和滤光层的光学物品，所述滤光层直接或隔着其他层形成在光学基材上。滤光层用于使规定波段的光透过而将波长长于和/或短于规定波段的光屏蔽。该滤光层具备含有通过添加碳、硅和锗的至少任意之一而被低电阻化的表层域的第1层。该光学物品中，第1层的表层域通过添加碳、硅和锗的至少任意之一而变成低电阻，所以能够在抑制对滤光层的光学性能产生的影响的同时赋予抗静电、防止异物附着等功能。

第1层优选为含有能与碳、硅和锗的至少任意之一形成化合物的过渡金属的层。由于由为了实施低电阻化而添加的成分和第1层所含有的成分来形成低电阻的化合物，所以能够减小形成于表层域的化合物与第1层在机械和/或化学上的差异，能够提供具备机械和/或化学上稳定的滤光层的光学物品。