[发明专利]光学用保护膜及其制造方法以及偏光片及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201010124408.1 申请日: 2010-02-26
公开(公告)号: CN101817250A 公开(公告)日: 2010-09-01
发明(设计)人: 所司悟;泉达矢 申请(专利权)人: 琳得科株式会社
主分类号: B32B27/30 分类号: B32B27/30;G02B1/04;G02B5/30;G02F1/1335
代理公司: 北京三幸商标专利事务所 11216 代理人: 刘激扬
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及一种光学用保护膜及其制造方法以及偏光片及其制造方法。提供一种特别适合作为偏光片使用的,透明性优异,具有光学上各向同性,同时耐湿性良好,耐久性优异,而且,与偏光膜的密封性良好的具有硬涂层功能的光学用保护膜,以及使用了该光学用保护膜的偏光片。该光学用保护膜为将硬涂层(A)、树脂层(B)以及粘着剂层(C)依次层积而形成的层积膜,各层均含有80质量%以上的(甲基)丙烯酸酯类化合物,该偏光片为使偏光膜与上述光学用保护膜的粘着剂层(C)面接合而层积得到,进一步,在该偏光膜的另一面侧依次层积粘着剂层(D)以及树脂层(E),而且,该偏光片由(D)以及(E)的各层均含有80质量%以上的(甲基)丙烯酸酯类化合物的层形成。
搜索关键词: 光学 保护膜 及其 制造 方法 以及 偏光
【主权项】:
一种光学用保护膜,其为将硬涂层(A)、树脂层(B)以及粘着剂层(C)依次层积而形成的层积膜,其特征在于,各层均含有80质量%以上的(甲基)丙烯酸酯类化合物。
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