[发明专利]光学用保护膜及其制造方法以及偏光片及其制造方法

权利要求书

1.一种光学用保护膜，其为将硬涂层(A)、树脂层(B)以及粘着 剂层(C)依次层积而形成的层积膜，其特征在于，上述树脂层(B) 为从由甲基丙烯酸甲酯均聚物以及含有80质量％以上的甲基丙烯 酸甲酯单元的(甲基)丙烯酸酯共聚物构成的群组中选出的至少1 种所构成的层，上述甲基丙烯酸甲酯均聚物和上述(甲基)丙烯酸酯 共聚物的重均分子量Mw为5万～50万，重均分子量Mw/数均分 子量Mn的分子量分布为1.5～3.0，上述树脂层(B)在温度23℃时 的储能模量E’为0.5MPa以上，上述粘着剂层(C)含有多官能活性 能量线固化型化合物，上述硬涂层(A)和上述粘着剂层(C)均含有 80质量％以上的(甲基)丙烯酸酯类化合物。

2.根据权利要求1所记载的光学用保护膜，其特征在于，粘着 剂层(C)在活性能量线照射后的温度23℃时的储能模量G’为 0.3MPa以上。

3.根据权利要求1所记载的光学用保护膜，其特征在于，硬涂 层(A)为在活性能量线感应型组合物层上照射活性能量线而形成。

4.一种权利要求1所记载的光学用保护膜的制造方法，其特征 在于，包括:

(a)在工程片的一面上，通过浇铸法形成树脂层(B)的工序；

(b)在上述树脂层(B)上形成硬涂层(A)的工序；以及

(c)将上述工程片剥离，在露出的树脂层(B)面上接合设置于剥 离片上的粘着剂层(C)面以贴合的工序。

5.根据权利要求4所记载的光学用保护膜的制造方法，其特征 在于，上述工序(b)中的硬涂层为在活性能量线感应型组合物层上 照射活性能量线而形成。

6.一种偏光片，其特征在于，使偏光膜与权利要求1所记载的 光学用保护膜的粘着剂层(C)面接合而层积得到。

7.一种偏光片，其特征在于，使偏光膜与权利要求1所记载的 光学用保护膜的粘着剂层(C)面接合而层积，进一步，在该偏光膜 的另一面侧依次层积粘着剂层(D)以及树脂层(E)，而且，(D)以及 (E)的各层均含有80质量％以上的(甲基)丙烯酸酯类化合物。

8.一种带粘着剂层的偏光片，其特征在于，在权利要求7所述 的偏光片的上述树脂层(E)的露出面侧进一步具有粘着剂层(F)，该 粘着剂层(F)含有80质量％以上的(甲基)丙烯酸酯类化合物。

9.一种权利要求7所述的偏光片的制造方法，其特征在于，包 括:

(a)在工程片的一面上，通过浇铸法形成树脂层(B)的工序；

(b)在上述树脂层(B)上形成硬涂层(A)的工序；

(c)将上述工程片剥离，在露出的树脂层(B)面上接合设置于剥 离片上的粘着剂层(C)面以贴合的工序；以及

(d)将上述剥离片剥离，在露出的粘着剂层(C)面上贴合偏光膜 的一个面的工序；

(e)在另一个工程片的一面上，通过浇铸法形成树脂层(E)的工 序；以及

(f)在上述树脂层(E)上，以剥离片上设有的粘着剂层(D)的露出 侧的面进行接合的方式进行贴合的工序；进一步，

(g)将上述粘着剂层(D)的上述剥离片剥离，贴合在上述偏光膜 的另一面上的工序。

10.根据权利要求9所记载的偏光片的制造方法，其特征在于， 上述工序(b)中的硬涂层(A)为在活性能量线感应型组合物层上照 射活性能量线而形成。

11.根据权利要求9所记载的偏光片的制造方法，其特征在于， 其中粘着剂层(C)及/或粘着剂层(D)含有多官能活性能量线固化型 化合物，而且，具有(h)在上述工序(g)之后照射活性能量线的工序。

12.一种带粘着剂层的偏光片的制造方法，其特征在于，对权 利要求9所得到的偏光片进行(k)在上述树脂层(E)上的露出面上， 以剥离片上设有的粘着剂层(F)面进行接合的方式进行贴合的工 序。

13.根据权利要求12所记载的带粘着剂层的偏光片的制造方 法，其特征在于，粘着剂层(C)、粘着剂层(D)和粘着剂层(F)中的 至少一层含有多官能活性能量线固化型化合物，而且，具有(i)在 上述工序(k)之后照射活性能量线的工序。