[发明专利]透明导电叠层体及其制造方法无效
| 申请号： | 201010121586.9 | 申请日： | 2010-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN102194539A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 陈炫达;徐明鸿;赖俊光 | 申请（专利权）人： | 联享光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14;H01B1/08;H01B13/00;G06F3/041;B32B9/04 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 吴小瑛;吕俊清 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及透明导电叠层体及其制造方法，本发明一实施例的透明导电叠层体包含一有机聚合物的透明基材、一色差调整层及一透明导电的铟锡氧化物层。该色差调整层形成于该透明基材表面，其折射率在1.4～1.8之间及厚度为1～100nm。该透明导电的铟锡氧化物层是于室温至80℃的温度范围条件下形成于该色差调整层表面，其厚度为5～80nm，又其构成元素铟(In)及锡(Sn)的比例需满足重量百分比关系：Sn/(Sn+In)＝0.5％～7％。且该透明导电叠层体的电子能隙大于3.6eV。 | ||
| 搜索关键词： | 透明 导电 叠层体 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种透明导电叠层体，其特征在于，包含：一有机聚合物构成的透明基材；一色差调整层，设于该透明基材表面，其折射率在1.4～1.8之间及厚度为1～100nm；以及一透明导电的铟锡氧化物层，设于该色差调整层表面，该透明导电的铟锡氧化物层的厚度介于10～50nm，又其构成元素铟及锡的比例需满足重量百分比关系：Sn/(Sn+In)＝0.5％～7％；其中该透明导电叠层体的电子能隙大于3.6eV。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于联享光电股份有限公司，未经联享光电股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010121586.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
