[发明专利]化学放大型光致抗蚀剂组合物和形成图案的方法无效
| 申请号： | 201010114105.1 | 申请日： | 2010-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN101799629A | 公开（公告）日： | 2010-08-11 |
| 发明（设计）人： | 市川幸司;杉原昌子;藤裕介 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴小明 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
本发明提供化学放大型光致抗蚀剂组合物和形成图案的方法。化学放大型光致抗蚀剂组合物包含：由式(I)表示的酸生成剂(A)和树脂，所述树脂包括：衍生自通过酸的作用而在碱中成为可溶性的单体的结构单元(b1)，衍生自具有含至少2个羟基的金刚烷基的单体的结构单元(b2)和衍生自具有内酯环的单体的结构单元(b3)；式(I)中Q1和Q2独立地表示氟原子或C1至C6全氟烷基；X1表示单键或-[CH2]k-，在-[CH2]k-中含有的-CH2-可以被-O-或-CO代替，并且在-[CH2]k-中含有的氢原子可以被C1至C4脂族烃基代替；k表示整数1至17；Y1表示任选取代的C4至C36饱和环状烃基，在所述饱和环状烃基中含有的-CH2-可以被-O-或-CO代替；并且Z+表示有机阳离子。 |
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| 搜索关键词： | 化学 大型 光致抗蚀剂 组合 形成 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种化学放大型光致抗蚀剂组合物，其包含：由式(I)表示的酸生成剂(A)，和树脂，所述的树脂包括：衍生自通过酸的作用而在碱中成为可溶性的单体的结构单元(b1)，衍生自具有含至少2个羟基的金刚烷基的单体的结构单元(b2)，和衍生自具有内酯环的单体的结构单元(b3)，![]()
其中Q1和Q2独立地表示氟原子或C1至C6全氟烷基；X1表示单键或-[CH2]k-，在-[CH2]k-中含有的-CH2-可以被-O-或-CO代替，并且在-[CH2]k-中含有的氢原子可以被C1至C4脂族烃基代替；k表示整数1至17；Y1表示任选取代的C4至C36饱和环状烃基，并且在所述饱和环状烃基中含有的-CH2-可以被-O-或-CO代替；并且Z+表示有机阳离子。
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