[发明专利]化学放大型光致抗蚀剂组合物和形成图案的方法无效

专利信息
申请号: 201010114105.1 申请日: 2010-02-04
公开(公告)号: CN101799629A 公开(公告)日: 2010-08-11
发明(设计)人: 市川幸司;杉原昌子;藤裕介 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: G03F7/039 分类号: G03F7/039;G03F7/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 吴小明
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 化学 大型 光致抗蚀剂 组合 形成 图案 方法
【权利要求书】:

1.一种化学放大型光致抗蚀剂组合物,其包含:

由式(I)表示的酸生成剂(A),和

树脂,所述的树脂包括:

衍生自通过酸的作用而在碱中成为可溶性的单体的结构单元(b1),

衍生自具有含至少2个羟基的金刚烷基的单体的结构单元(b2),和

衍生自具有内酯环的单体的结构单元(b3),

其中Q1和Q2独立地表示氟原子或C1至C6全氟烷基;

X1表示单键或-[CH2]k-,在-[CH2]k-中含有的-CH2-可以被-O-或-CO代替,并且在-[CH2]k-中含有的氢原子可以被C1至C4脂族烃基代替;

k表示整数1至17;

Y1表示任选取代的C4至C36饱和环状烃基,并且在所述饱和环状烃基中含有的-CH2-可以被-O-或-CO代替;并且

Z+表示有机阳离子。

2.权利要求1所述的化学放大型光致抗蚀剂组合物,其中所述衍生自通过酸的作用而在碱中成为可溶性的单体的结构单元(b1)表示由式(II)表示的结构单元:

其中Z1表示单键或-[CH2]k1-,并且在-[CH2]k1-中含有的-CH2-可以被-CO-,-O-,-S-或-N(RC1]-代替;

k1表示整数1至17;

Rc1表示氢原子或C1至C6脂族烃基;

R1表示氢原子或甲基;

R2表示C1至C6脂族烃基;

R3表示甲基;并且

n1表示整数0至14。

3.权利要求2所述的化学放大型光致抗蚀剂组合物,其中衍生由式(II)表示的结构单元的单体是丙烯酸2-甲基-2-金刚烷基酯,甲基丙烯酸2-甲基-2-金刚烷基酯,丙烯酸2-乙基-2-金刚烷基酯,甲基丙烯酸2-乙基-2-金刚烷基酯,丙烯酸2-异丙基-2-金刚烷基酯或甲基丙烯酸2-异丙基-2-金刚烷基酯。

4.权利要求1所述的化学放大型光致抗蚀剂组合物,其中

所述衍生自具有含至少2个羟基的金刚烷基的单体的结构单元(b2)表示由式(III)表示的结构单元:

其中R4表示氢原子或甲基;

R5表示甲基;

R6和R7独立地表示氢原子,甲基或羟基,条件是R6和R7中的至少一个表示羟基;

n2表示整数0至10;

Z2表示单键或-[CH2]k2-,并且在-[CH2]k2-中含有的-CH2-可以被-CO-,-O-,-S-或-N(RC2]-代替;

k2表示整数1至17;

Rc2表示氢原子或C1至C6脂族烃基。

5.权利要求4所述的化学放大型光致抗蚀剂组合物,其中衍生由式(III)表示的结构单元的单体是丙烯酸3,5-二羟基-1-金刚烷基酯或甲基丙烯酸3,5-二羟基-1-金刚烷基酯。

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