[发明专利]形成微电子结构的方法有效
| 申请号： | 201010110135.5 | 申请日： | 2005-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN101916051A | 公开（公告）日： | 2010-12-15 |
| 发明（设计）人： | D·J·格雷罗;R·C·考克斯;M·W·维默 | 申请（专利权）人： | 布鲁尔科技公司 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;G03F7/09;G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 朱黎明 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： |
提供了一种形成微电子结构的方法，所述方法包括以下步骤：提供具有表面的基材；将组合物施涂在所述表面上，所述组合物包含：选自聚合物、低聚物或其混合物的化合物，所述化合物包含非酚基的酸基；乙烯基醚交联剂和溶剂体系，所述化合物和交联剂溶解或分散在所述溶剂体系中，使所述组合物中的化合物交联，形成一层基本不溶于光刻胶溶剂中的组合物层，并且形成包含具有以下结构式的连接基团的交联化合物；在所述组合物上形成光刻胶层；使所述组合物曝光，形成所述组合物的曝光部分；使所述组合物与显影剂接触，以从所述表面除去所述曝光的部分。 |
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| 搜索关键词： | 形成 微电子 结构 方法 | ||
【主权项】：
1.一种形成微电子结构的方法，所述方法包括以下步骤：提供具有表面的基材；将组合物施涂在所述表面上，所述组合物包含：选自聚合物、低聚物或其混合物的化合物，所述化合物包含非酚基的酸基；乙烯基醚交联剂；和溶剂体系，所述化合物和交联剂溶解或分散在所述溶剂体系中，使所述组合物中的化合物交联，形成一层基本不溶于光刻胶溶剂中的组合物层，并且形成包含具有以下结构式的连接基团的交联化合物![]()
在所述组合物上形成光刻胶层；使所述组合物曝光，形成所述组合物的曝光部分；使所述组合物与显影剂接触，以从所述表面除去所述曝光的部分。
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