[发明专利]稀土离子掺杂钆镓石榴石多孔纳米带及其制备方法无效
| 申请号： | 201010107352.9 | 申请日： | 2010-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN101850947A | 公开（公告）日： | 2010-10-06 |
| 发明（设计）人： | 董相廷;王进贤;刘莹;刘桂霞;于文生 | 申请（专利权）人： | 长春理工大学 |
| 主分类号： | B82B1/00 | 分类号： | B82B1/00;B82B3/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 130022 吉林*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明涉及稀土离子掺杂钆镓石榴石多孔纳米带及其制备方法，属于纳米材料制备技术领域。本发明包括三个步骤：(1)配制纺丝液，其中硝酸盐质量分数为6～10％，PVP质量分数为26～30％，其余为溶剂DMF；(2)制备PVP/[Gd(NO3)3+Ga(NO3)3+RE(NO3)3]复合纳米带，采用静电纺丝技术，技术参数为：电压为15～18kV，固化距离为10～15cm；注射器针头喷嘴的内径为1.2mm，采用竖喷方式，室内温度20～30℃，相对湿度为40％～50％；(3)制备GGG:RE3+多孔纳米带，对所获得的PVP/[Gd(NO3)3+Ga(NO3)3+RE(NO3)3]复合纳米带进行热处理得到GGG:RE3+多孔纳米带。 | ||
| 搜索关键词： | 稀土 离子 掺杂 石榴石 多孔 纳米 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种稀土离子掺杂钆镓石榴石多孔纳米带，其特征在于，所述的稀土离子掺杂钆镓石榴石多孔纳米带的带宽2～4μm，厚度30～80nm，长度大于500μm；所述的稀土离子掺杂钆镓石榴石多孔纳米带的通式为GGG:RE3+，其中RE3+＝Pr3+，Nd3+，Sm3+，Eu3+，Tb3+，Dy3+，Ho3+，Er3+，Tm3+，Yb3+，Yb3+/Er3+中的1个。
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