[发明专利]一种超硬氮铝化钛薄膜的微波等离子体制备方法无效
| 申请号: | 201010011404.2 | 申请日: | 2010-01-05 |
| 公开(公告)号: | CN101736325A | 公开(公告)日: | 2010-06-16 |
| 发明(设计)人: | 孙四通;于庆先 | 申请(专利权)人: | 青岛科技大学 |
| 主分类号: | C23C16/511 | 分类号: | C23C16/511;C23C16/34 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 266034 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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| 摘要: | 本发明涉及一种超硬氮铝化钛薄膜的微波等离子体制备方法,该方法包括超硬氮铝化钛薄膜的制备步骤和停机的步骤,主微波从微波系统中出来,通过波导及调谐装置,经过石英微波窗口到达镀膜室。1500~2300V交流电加在两个弧形金属钛靶上,使两级的气体Ar电离成等离子气团,微波将这些等离子输运到弧形钛靶上,氢气进气口3为送氢气的入口,高纯铝在加热的情况下蒸发,在侧微波的辐照下呈等离子状态,通过侧微波短路板进入沉积室的衬底氮气进气口为输送氮气的进气口,Ar等离子体对钛靶金属表面离子轰击形成等离子气团,并输运到衬底上而共淀积成膜。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 超硬氮铝化钛 薄膜 微波 等离子体 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种超硬氮铝化钛薄膜的微波等离子体制备方法,包括超硬氮铝化钛薄膜的制备步骤,其特征在于:所述制备方法是在主微波和侧微波的照射下完成的;所述超硬膜氮铝化钛薄膜的制备步骤是:第一步:加热温度到430~550℃;第二步:启动冷却水系统,通入冷却水;第三步:启动抽真空系统,抽真空到1.1×10-3Pa以下,保持真空状态;第四步:进入还原系统,加载H2到4~7×10Pa,30~35分钟,对钛靶表面的氧化物进行还原;第五步:加热铝到1000~1500℃第六步:送载气(Ar),其压力为3~7×10Pa;第七步:启动微波系统,送入主微波,电流为0.4~0.5A,使气体辉光放电,加偏压185~195V,离子清洗基底40~50分钟;第八步:调节微波电流,使其为0.1A,偏压调到38V。调节基座加热电压,使温度降到250~270℃;第九步,通入侧微波的辐照下铝呈等离子状态,并进入衬底。第十步:关闭氢气,调节Ar量,使真空度保持在6~7×10Pa,10分钟后通入氮气,将钛靶电压升至1900~2500V;第十一步:测量钛靶区域产生的沉积超硬氮铝化钛薄膜厚度;第十二步:停机。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





