[发明专利]光学元件的制造方法及光学元件无效
| 申请号： | 201010004571.4 | 申请日： | 2010-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN101806931A | 公开（公告）日： | 2010-08-18 |
| 发明（设计）人： | 釰持伸彦 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 李贵亮 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种在基板的衍射结构部形成一致的细线并能够提高光学性能的光学元件的制造方法及光学元件。其特征在于，具有：在基板(2)的一面上形成栅格部(4)的栅格部形成工序；在形成有栅格部(4)的基板(2)的一面上形成与衍射结构部(3)对应的衍射结构部用抗蚀剂图案的衍射结构部用抗蚀剂图案形成工序；通过隔着衍射结构部用抗蚀剂图案对基板(2)沿厚度方向进行各向异性蚀刻来形成衍射结构部(3)的衍射结构部蚀刻工序；从相对于形成了衍射结构部(3)的基板(2)的一面的倾斜方向堆积反射材料而在栅格部(4)形成细线(4a)的细线形成工序。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光学元件的制造方法，该光学元件具备：基板；由交替形成在所述基板的一面上的多个凹部及凸部构成的衍射结构部；沿所述衍射结构部的表面以规定的间距形成的多个栅格部；在所述栅格部上沿所述栅格部的延伸方向设置的细线，所述光学元件具有对入射光进行偏振光分离的功能，所述光学元件的制造方法的特征在于，具有：在所述基板的一面上形成所述栅格部的栅格部形成工序；在形成有所述栅格部的所述基板的一面上形成与所述衍射结构部对应的衍射结构部用抗蚀剂图案的衍射结构部用抗蚀剂图案形成工序；通过隔着所述衍射结构部用抗蚀剂图案对所述基板沿厚度方向进行各向异性蚀刻来形成所述衍射结构部的衍射结构部蚀刻工序；从相对于形成有所述衍射结构部的所述基板的一面的倾斜方向堆积反射材料而在所述栅格部形成所述细线的细线形成工序。
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